二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293625726 待售

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ID: 293625726
晶圓大小: 8"
CVD System, 8" MK II Chambers No MFC No turbo pumps.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種垂直型擴散反應器,廣泛應用於半導體工業中,用於氧化、磷擴散、硼擴散、熱退火等多種工藝。這種先進的反應堆被設計用來產生均勻性和可重復性,同時允許快速和精確的過程執行。AMAT P-5000反應堆采用高度85英寸(2.15米),直徑40.1英寸(102厘米),體積45.7立方英尺(1.3立方米)的垂直圓柱幾何設計。腔室由石英外殼和陶瓷芯構成,與水平爐相比,允許均勻且可重復的溫度。石英殼還確保高溫過程可達到高達2400 °C或4352 °F的高溫。APPLIED MATERIALS P 5000具有兩個石英加熱區,用於測量關鍵加工步驟的熱要求。它還可能配有多種石英和金屬器皿組件,如氧化鋁和鎢籃,用於多種工藝要求。P-5000反應器可用於半導體工業的高溫過程,如磷和硼擴散。這種過程需要精確控制高溫均勻性和可重復性,AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反應堆是為了滿足這一要求而設計的。石英外殼確保反應器內部晶片的溫度均勻,而陶瓷堆芯和石英加熱區則提供精確的溫度控制。此外,AMAT P5000反應堆的垂直幾何形狀允許快速、一致的過程執行和冷卻時間,有助於縮短周轉時間。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000反應堆的設計采用了精確的工藝控制,這對於生產頂級半導體產品至關重要。它允許用戶選擇精確的參數,如時間和溫度,提高過程的準確性。而且,APPLIED MATERIALS P-5000可以配備基於PC的控制系統,進一步擴展其過程控制能力。總體而言,P 5000是一種用途廣泛、可靠的垂直擴散反應堆,用於半導體工業,因為它具有精確的溫度控制、過程重復性的一致性和高達2400 °C或4352°F的高溫。它旨在提供晶片的均勻加熱,同時允許快速和精確的過程執行,使其能夠生產頂級半導體產品。
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