二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293637028 待售
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ID: 293637028
晶圓大小: 8"
優質的: 2013
Etcher, 8"
Orient MxP (Optima type)
(3) Poly chambers
Does not include pump or chiller
2013 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種全自動、微型制造、單晶圓先進的工藝控制反應堆設備，用於半導體工業的蝕刻和沈積應用。AMAT P-5000結合了精確度、可重復性和高產過程控制，能夠提供卓越的吞吐量。它能夠控制蝕刻、氧化、硝化碳化和金屬沈積參數，以適應廣泛的蝕刻和沈積要求。APPLICED MATERIALS P 5000利用物理-機械和化學過程的結合，實現了薄膜的化學氣相蝕刻（CVD）和化學氣相沈積（CVD）。該系統的核心在於它能夠精確控制腔室內運行的溫度、壓力和化學組合性，同時進行多種蝕刻/沈積過程。該單元包括具有多氣體混合能力的化學氣體輸送機、腔室壓力輸送工具以及物理機械腔室清潔資產。該模型還包括一個運輸和網頁處理設備，能夠支持薄和厚網頁產品。P 5000利用射頻等離子體電源將光子泵入腔內，提高蝕刻和沈積速率。通過在電源接地系統中使用熱電偶來調節加熱元件的功率輸出和反饋控制，使腔室溫度保持恒定。然後使用質量流控制器調節蝕刻化學物質進入腔室的流量，然後引入CVD氣體，導致薄膜沈積。P-5000的反應室也被用來蝕刻過氧化氫、氫氟酸和硝酸等化學物質。使用熱電偶功率控制裝置和帶有嵌入式軟件的車載計算機來保持腔室溫度，以幫助控制和監測工藝條件。此外，AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000使用光發射光譜儀幫助探測和測量蝕刻和沈積過程中室內的氣態物質。總體而言，P5000是一個非常堅固可靠的過程控制反應器機器，用於薄膜蝕刻/沈積和其他半導體過程。該工具具有卓越的吞吐量、精確度和可重復性,平均產量為75-90%,過程結果一致。通過使用AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000,半導體工藝開發人員和工程師可以獲得高性能結果,同時減少制造周期的時間和成本,從而獲得更可靠的產品。
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