二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9040992 待售
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ID: 9040992
CVD TEOS, 4"
Model: ON-BD TEOS STAN
Twin chamber
Ancillaries
Steel-framed ancillary stand
(2) vacuum pumps
Stored in cleanroom.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是下一代高性能等離子體反應器,在高級半導體應用中為卓越的工藝性能和可靠性而設計。這類反應器,又稱高密度等離子體(HDP)反應器,利用磁增強等離子體來提高沈積速率、薄膜層均勻性、介電和金屬沈積特性。AMAT P-5000 HDP反應堆具有許多關鍵特性,使其成為半導體工業設備和材料創新的寶貴資產,包括:多爐設計:這一專利設計采用多爐式結構,以確保晶圓恒定和均勻加熱。這一特性對於材料在晶片上的重復和準確沈積至關重要。低溫操作:APPLIED MATERIALS P 5000具有低溫操作範圍,允許更快的沈積和高材料兼容性與標準和低k器件的制造。超精密溫度控制:為進一步提高P-5000溫度精度,反應堆采用超精密溫度控制系統,確保材料的精確重復沈積。多重基板兼容性:該反應堆設計為與各種基板材料高度兼容,允許介電和含金屬材料的優越沈積。高密度等離子體:P 5000 HDP反應器利用磁增強等離子體提高沈積速率、薄膜層均勻性和介電/金屬沈積特性。遠程診斷:此反應堆提供遠程診斷功能,允許對機器進行實時、現場故障排除和維護。應用材料P-5000 HDP反應堆是一種強大的下一代反應堆,能夠在半導體工業中進行卓越的沈積和材料創新。磁增強等離子體的加入提高了沈積速率、均勻性和材料兼容性,使得AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000非常適合在各種基材上對材料進行精確和可重復的加工。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 HDP反應堆具有低溫運行、精確的溫度控制和遠程診斷功能,是一個強大的反應堆,能夠提供卓越的性能和可靠性。
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