二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9056702 待售
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已售出
ID: 9056702
優質的: 1999
PECVD System, 8"
Mark II P5000 mainframe
(4) Chambers
15 slot storage elevator
8” Cassette Handler
Bolt down load luck lid with purge
Phase III robot
Remote Rack with (2) ENI OEM 12B 13.56Mhz generators
Steelhead Heat Exchanger
Thru the wall interface with (2) monitors: (1) TTW, (1) stand alone
PLIS Cabinet
PLIS Minicontroller
DPS generator rack with ENI DPG-10 Generator and DPA Interlock board
Chamber A:
Universal PECVD chamber
Cluster Throttle valve
Gold Style Lamp module
Phase IV RF match
Dual manometers with 100/1000 Torr manometers
Unit 1660 MF calibrated to customer spec
STEC LF-410 LFM’s and 2410 injectors calibrated to customer spec
Chamber B:
Standard PECVD chamber
Cluster Throttle Valve
Gold Style Lamp Module
Phase IV RF Match
Dual manometers with 10/1000 Torr manometers
1660 MFC’s calibrated to customer spec
1999 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS P5000反應堆是專門為半導體、薄膜半導體和磁性材料的沈積、蝕刻和其他相關薄膜加工而設計的高性能加工設備。此工具既用於批量生產,也用於研發應用。AMAT P-5000反應器具有激光和光學過程模塊以及基於CPU/DSP的控制器。激光和光學過程模塊是一個6軸運動系統，一個線性真空室安裝在一個精確的線性軌道上，允許精確和可重復的運動。激光和光學處理模塊由高分辨率激光單元、對焦相機以及光纖和激光通信組成。基於CPU/DSP的控制器可對氣體和原料、射頻和直流偏置、晶圓溫度、時間、能量和加速度等參數進行可編程控制。APPLICED MATERIALS P 5000反應堆還設有對流機，能夠在大範圍的加工條件下提供多種溫度。它配備了幾種氣體分配系統，如高速率質量流控制器和低速率質量流控制器。氣體分配工具有助於控制反應堆中反應物種類的時空分布。射頻（RF）和直流電（DC）偏置也可以在處理過程中應用，允許反應中產生活性物種。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000反應堆還具有多種工藝增強功能。模型中包括了一種高真空排氣資產，可以快速、高效地疏散反應副產物。此外，該設備還設計用於快速采集晶圓樣品，從而能夠不斷改進和改進工藝。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反應器是在半導體、薄膜半導體和磁性材料的沈積、蝕刻和其他相關薄膜加工方面實現卓越性能的有效工具。
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