二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9058265 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9058265
晶圓大小: 6"
優質的: 1995
CVD System, 6" Process: TEOS 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是為滿足現代半導體生產需要而專門設計的高性能、高容量等離子蝕刻設備。AMAT P-5000利用先進的光學和射頻技術,通過控制蝕刻輪廓提供高水平的陣列精度和均勻性。該系統每小時可蝕刻多達20個晶片,特征大小分辨率為15nm。APPLIED MATERIALS P 5000具有集成的氣體輸送裝置,能夠完全控制等離子體過程,包括自動氣體管理和端點確定。這樣可以提高蝕刻化學的靈活性和控制,從而提高工藝可靠性和可重復性。P-5000配備了先進的等離子體控制自動化套件,對蝕刻工藝進行了詳細的監測和分析。這允許優化過程以最大化吞吐量。它還提供了自動檢查和調整過程參數的內置自我診斷功能。APPLIED MATERIALS P-5000還具有雙腔室設計,可實現盡可能高的吞吐量,並提高工藝穩定性。腔室的設計目的是為晶片提供最佳冷卻,降低介電和等離子體損壞的風險。雙腔室還允許最大限度地利用氣體,並確保整個晶片的均勻性.P5000還配備了先進的光學診斷機,能夠進行即時OPC處理。這樣可以確保精確且可重復的蝕刻圖樣處理結果。最後,AMAT P5000與設置站、清理站和現場計量工具集成在一起。這樣可以確保晶片的最高吞吐量和均勻性。安裝站可確保晶片方向精確,並提供易於使用的觸摸屏界面,用於快速加載和卸載晶片。現場計量資產對晶片進行數據精度掃描,為過程控制模型提供精確反饋。總體而言,P 5000是一種高度先進的工藝工具,旨在滿足現代半導體生產的需求。該設備具有先進的光學和射頻技術、雙腔室設計、集成氣體輸送設備、等離子體控制自動化套件和現場計量系統,能夠提供生產線中最高的質量和吞吐量。
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