二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9058266 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9058266
晶圓大小: 6"
優質的: 1996
CVD System, 6" Process: TEOS 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor是一種先進的等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)反應器,高效可靠。該工具可實現大的加工室、高度的基板均勻性和緊密的晶圓內均勻性。AMAT P-5000 Reactor還采用低壓操作來提高吞吐量,同時最大限度地減少晶圓應力並提供改進的薄膜均勻性。APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor的主要部件包括等離子體集群源、雙線圈感應耦合動力輸送系統、低壓過程室。等離子體團簇源使用了一系列並聯電容器,其中包含三個高密度、線繞電極段。這種電極配置產生均勻、高性能的等離子體團簇,並針對PECVD進行了優化。雙線圈感應耦合輸電系統具有大的中心電子束線圈產生大的穩定等離子體場,以及更緊湊的周邊線圈為過程提供必要的動力緊密而精確。低壓工藝室采用單件鐘形設計,通過最大限度地減少可能產生熱點的組件,實現晶圓的寬均勻性和晶圓內均勻性。腔室的低壓操作也允許更高的吞吐量速率。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reactor提供高速沈積速率、均勻的基板覆蓋範圍、廣泛的工藝條件以及與多種PECVD兼容材料的兼容性。該工具是生產具有嚴格臨界尺寸控制和低缺陷水平的晶片的理想解決方案。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor可用於生產一系列先進塗層,包括矽基電介質和金屬。該工具還可以幫助創建納米結構、超敏氣體傳感器和其他類型的納米級架構。應用材料P-5000反應堆針對性能、可靠性和成本效益進行了優化。此工具是半導體制造商的絕佳選擇,因為它提供了緊密的一致性和出色的吞吐量。此外,它的低壓工藝室和雙線圈電感耦合供電系統使得它非常適合創建具有均勻性的臨界層。
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