二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9084588 待售

ID: 9084588
晶圓大小: 8"
WCVD system, 8" P5000 Mark II frame 28-Slots expanded gas panel 8-Slots storage elevator 21-Slots VME with 3 ½” FDD Position A: WxL WCVD Position B: WxL WCVD Position C: WxL WCVD ENI OEM‐12B Generators Phase IV RF match AMAT0 Heat exchanger.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反應堆是一種先進的、自動化的等離子體增強型化學氣相沈積(PECVD)設備,能夠在制造先進電子材料時進行多種工藝。AMAT P-5000反應堆具有多個等離子體源,允許同時沈積多達六個單獨的薄膜。這允許在各種厚度、結晶度和密度上創建設備,並且能夠在設備制造中實現納米級精度。APPLICED MATERIALS P 5000反應堆配置性強,具有多個反應堆和源,以及獨立操作的開啟/關閉閥和其他組件。這允許開發和執行廣泛的工藝配方,使用戶能夠生產多種電子材料和結構中的結構。這種多流程配置還為用戶提供了可以使用的流程配方類型的更大靈活性,從而允許根據設計需求或實驗需求定制各種解決方案。APPLIED MATERIALS P5000反應堆還設有一個自動化的物料來源控制系統,該系統允許反應堆內單個反應器的精確定時。這有助於確保所需的反應在整個底物中均勻發生,從而形成具有一致電學和光學特性的均勻層。此外,P5000反應器還可用於多層薄膜的模板和圖案化。應用材料P-5000反應堆能夠在77K至650K的溫度和500 mBar至950 mBar的壓力下運行。它還具有集成的閉環流量控制單元,能夠精確控制處理環境。這有助於確保設備產生的層的質量和可重復性。AMAT P5000反應堆可靠性高,結構緊湊,設計了許多便於拆卸和重新組裝的部件。這使得它成為研究實驗室快速原型制作的理想選擇,從而能夠快速開發產品並更快地將新型電子材料推向市場。總而言之,AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000反應器是一種用途廣泛、可靠的PECVD機器,可用於制造先進電子材料的廣泛過程。P-5000反應堆以其多個等離子體源、閉環流量控制和自動源控制工具,能夠在一定厚度、結晶度和密度範圍內生產高度均勻的薄膜。此外,它易於拆卸和重新組裝,使其成為研究實驗室快速成型的絕佳選擇。
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