二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9087456 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

ID: 9087456
晶圓大小: 6"
Metal etchers, 6" (2) MXP-R2 Chambers with ESC (1) ASP Chamber (1) Wafer orient chamber (28) Line gas panel Phase 3 robot (29) Slot storage elevator.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反應器是一種最先進的薄膜沈積設備,設計用於在半導體晶片上沈積多種薄材料。AMAT P-5000反應器能夠在200 mm和300 mm晶片上沈積高質量的外延矽沈積,以及沈積各種薄膜,如非晶矽、金屬氧化物、ha基氧化物和矽化物。此外,它還可以沈積有機材料的薄膜以及鋁和銅的金屬層。APPLICED MATERIALS P 5000反應器是一種單晶圓、閉空反應熱處理系統。它包括一個離子束源,用於電離和引導氣體在沈積室內流動, 用於控制高純度氣體前體流入的石英工藝窗口, 放置在工藝窗口上方的淋浴頭,將離子引入室內並引導到基板表面, 一種用於在工藝室內精確定位每個基板的移動基板支架和一個渦輪泵送裝置,用於在薄膜沈積過程中保持腔室內的真空。該機還包括用於基板裝卸的精密機械臂,以及在沈積過程中使用的每種氣體都有單獨流量控制器的氣體處理工具。AMAT P 5000的單片反應器能夠達到900 °C的最高溫度,可以在室溫至最高溫度的溫度下使用。也可用於富氧環境,以提高膜沈積速率,降低沈積溫度。資產還具有集成掃描頭,可用於測量沈積層的材料特性,如薄片阻力、薄片摻雜和薄膜厚度。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000是一種多用途的薄膜沈積工具,由於其獨特的設計和特點,可實現精確的沈積。該模型能夠沈積各種薄膜材料,效果優異,適用於潔凈室環境。該設備自動化程度很高,使用起來相對容易,其機器人臂、動力控制和過程監測系統旨在提高沈積過程的生產率。
還沒有評論