二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9100769 待售
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ID: 9100769
晶圓大小: 8"
優質的: 1995
Metal etcher, 8"
Process: Al
(2) MxP
ASP Chamber
Wafer transfer system
ASTEX Microwave power
Gas lines
Hardware:
Main process modules:
Chamber A
Metal etch B
Strip D
Mark ll Main frame
Storage elevator: 29 Slots
Independent helium cooling
Expanded VME
Phase III robot
Phase II cassette
Sub modules:
AC Remote frame
Digital cables
Analog cables
Emergency interlock cables
Heat exchanger
ENI OEM 12A RP Generator
ENI OEM 12B RP Generator
ASTEX Microwave
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor是AMAT開發的一種化學氣相沈積（CVD）設備。該系統是為大批量生產而設計的先進半導體沈積工具。反應堆由幾個硬件部件組成，包括一個帶有晶圓支架的敏感器、一個氣體噴頭、一個加熱器和一個氣體輸送單元。磁感器是一個高大的圓柱形腔室，具有扁平的圓形底座，用於在沈積過程中保持晶片。晶圓座安裝在磁感器的蓋子上，以指定的順序排列晶圓。氣體噴頭位於反應堆內部。它配備了多個噴嘴，將特定數量的反應物氣體從送貨機噴射到晶圓表面。AMAT P-5000反應器中包括一個加熱器，用於控制反應器內部的溫度，從而能夠準確選擇反應溫度和沈積速率。APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor還包括一個自動氣體輸送工具，在正常工作壓力下提供正確的氣體混合物。該資產還有助於保持清潔環境，防止晶圓汙染和沈積過程。最後，P 5000反應堆配有一個安全模型，用於監測內部壓力、氣流和溫度，確保最佳沈積參數，並提供安全的工作環境。應用材料P5000反應堆的CVD工藝是一種高質量、一致、均勻的產品。這種設備非常適合半導體器件制造商，因為它可以處理大批量生產並提供高產率。
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