二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9103153 待售

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ID: 9103153
晶圓大小: 6"
CVD Nitride system, 6" (4) Chambers 15 Slot storage elevator Phase III robot VAT ZA Style slit valves rectangular insert Penulator flat screen monitor Solid state hard drive 28 Slot gas panel Mini controller with remote gas control (28) Horriba STEC Z500 digital MFC’s Modular AC rack Load lock lid hoist Chamber A,B,C,D: Silane nitride giant gap chamber Thick plate gas box with teflon insulator Direct drive cluster throttle valve Nupro gas valve, filter, manifold MKS 627B Dual 10-100 torr baratron heated Includes: Lift hoop Fingers Susceptor Not included: RF Matches Generator Heat exchanger Currently de-installed.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種最先進的研發反應堆,用於生產用於電子芯片技術的薄矽和其他材料。它能夠生產小於10nm的器件層,適用於制造半導體器件,如石墨烯和光伏產品。AMAT P-5000利用一個晶片加工室,由一個短介電襯裏和一些強大的組件組成,包括加熱元件、氣體疏散設備和噴射器。加熱元件是一種電阻陶瓷換熱器,能夠快速加熱並保持穩定的溫度。氣體疏散系統設計用於清除任何不需要的氣體,而噴射器則用於向腔室註入過程氣體。腔室由一個電源單元支撐,該單元向各個組件提供連續的電力,同時使用氣體凈化機清理過程中的氣體。APPLIED MATERIALS P 5000旨在通過應用射頻濺射或其他基於能量或電荷的工藝選擇性蝕刻矽、金屬和其他材料。該反應器能夠比傳統的基於光刻圖樣的工藝,例如用於芯片制造的工藝,實現更高的精度和更精細的圖樣。反應堆通常在0.5至5mTorr的等離子體壓力下運行,能夠產生介電層、金屬和其他材料。AMAT P5000支持一系列工藝參數和選項,例如溫度範圍、沈積時間和整個工藝周期時間。這允許生產復雜的3D微結構和其他復雜的芯片設計。該反應堆能夠產生用於電路和後端工藝的均勻表面,並用於微電子工業中,用於制造超薄集成電路。P5000已被證明是一種可靠和高效的設備,使用戶能夠在傳統光刻工藝所需時間的一小部分內實現準確、高性能的設備。憑借其微調的控制能力和優越的性能,P-5000成為微電子行業研究人員的寶貴工具。
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