二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9103464 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反應器設計用於半導體基板的柔性離子植入和離子束沈積處理。它能夠實現下一代半導體器件的高精度處理。AMAT P-5000設計為模塊化和高度可定制,使客戶能夠根據晶片的特定要求調整其離子植入物和離子束沈積過程。該設備具有兩個腔室和一個腔室配置，在其最大配置中最多可支撐四個晶片。腔室由獨立的吸塵器操作，每個腔室都有各自獨立的密封環境。APPLIED MATERIALS P 5000的第一室容納了離子源、反應堆室、質譜儀系統和選源真空單元。離子源是具有聚變電源的圓柱形擴散容器。它提供了廣泛的能量和發射幾何形狀，以適應各種晶圓處理操作，如摻雜，摻雜傳輸和摻雜二極管限制。AMAT P5000反應堆室裝有浮動磁環和可調陽極板，提供均勻的離子束轟擊條件和非常低的背景電流。APPLIED MATERIALS P5000質譜儀是為準確識別雜質種類和微調植入物及沈積參數而設計的。P 5000的第二室裝有過程控制和數據采集計算機，其設計目的是提供對離子植入物和離子束沈積過程的全閉環控制。該工具具有先進的用戶友好圖形用戶界面,允許以最小的配置快速輕松地進行控制。P-5000能夠完全控制工藝室內存在的所有物種的濃度,並能夠控制產生的光束的光束電流、離子電流、能量和化學計量。該資產還能夠以納米級精度實現可重復的結果。AMAT P 5000的整體設計使其成為開發高性能晶圓處理技術的寶貴工具。模型的模塊化性質，加上其高精度的微處理能力，使得它成為一個強大的工具，可以根據幾乎任何基板處理任務的需要量身定制。通過利用AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000的設計和功能,工藝工程師可以以前所未有的效率和靈活性實現高精度結果。