二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9116159 待售

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ID: 9116159
晶圓大小: 6", 8"
優質的: 1994
Etcher, 6" (3) MXP Poly chambers A: MXP B: MXP D: MXP+ 1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種用於蝕刻和沈積過程的前沿半導體反應器。該反應堆提供可靠的設備性能、經濟高效的運行和過程控制,從而能夠快速交付新產品。AMAT P-5000反應器具有13.56MHz的發電機,既可用於高功率射頻濺射,也可用於高密度電感耦合等離子體(ICP)工藝。該工藝室是為高效的氣體混合、精確的流量控制和精確的氣體濃度維護而設計的。通過隔膜機械前泵保持真空水平。APPLICED MATERIALS P 5000反應器還采用真空門閥進行精確梯形壓力調節.AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000反應堆除了具有高性能外,還通過其獨特的設計節省了成本,它利用最佳的硬件最大程度地提高了單位表面積安裝離子通量密度的比率。過程中使用的電源效率很高,因此,由於需要的操作電源較少,因此會帶來成本效益。應用材料P-5000具有脈沖和連續直流偏置源的組合,具有精確的脈沖寬度、頻率和幅度控制。這使得優化蝕刻和沈積配方成為可能,確保了優良的產量和質量。P-5000通過精確的溫度和壓力控制提供了均勻性、密度和厚度等增強的膜性能。精密的工藝設計、對薄膜生長的精確控制和提高的吞吐量是AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反應堆的一些關鍵優點。反應堆有一個離子源,不同的配偶體和層都有單獨的發射器。此外,這座反應堆還有氣體註入系統,確保在腔室內不同級別的氣體精確分布和壓力控制。AMAT P5000反應堆進一步利用全數字化低壓直流、交流電(AC)和濺射電源支持高速制造過程。通過提供可靠的設備性能和經濟高效的操作,P 5000是半導體制造的熱門選擇。
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