二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9168800 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種下一代等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器，用於沈積各種薄膜器件，如絕緣子上矽（SOI）晶體管、薄膜集成電路和其他光電材料。AMAT P-5000能夠在批量和串聯配置中運行,並在大型基板上提供高速率、高質量的薄膜沈積,最終的材料具有優異的器件性能。其優越性能的關鍵是使用感應耦合等離子體（ICP）源和電容耦合等離子體（CCP）源。ICP源產生高效且均勻的等離子體，可以精確調整以改變等離子體反應速率，而CCP源提供相對較低的等離子體反應速率。APPLIED MATERIALS P 5000的氣流分配系統進一步優化了產生的等離子體的均勻性和反應速率。此外,APPLIED MATERIALS P-5000利用溫度控制的上部電極,可調至600 °C。P-5000具有對電極施加負偏置的能力，在大基板上提供了出色的薄膜沈積效果。AMAT P 5000由於缺乏微粒前體來源和使用了優化的氣流分配系統，進一步得益於極低的微粒水平和缺陷形成。此外，感應耦合等離子體（CCP）源提供了保證大面積良好膜均勻性的有效手段。總體而言，AMAT/APPLICED MATERIALS P-5000提供優於大型基板的薄膜沈積效果，是尋求高質量、高速率PECVD工藝的人的絕佳選擇。利用ICP源提高等離子體的效率和均勻性，結合CCP源提供更低的反應速率和更好的膜均勻性，以及調節溫度和偏差的能力，使P 5000成為一個優秀的全能PECVD系統。