二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9172854 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是由AMAT, Inc.開發的一種支持等離子體的化學氣相沈積（CVD）反應器。反應堆利用一系列不同的磁場、射頻頻率和等離子體源來達到廣泛的加工溫度和通量水平，從而實現更高的沈積速率、更高的工藝產率和單批處理大晶片的能力。使用AMAT P-5000可以進行的工藝包括外延、高性能介電層沈積、金剛石狀碳沈積、光刻灰化、鋁和矽蝕刻以及各種蝕刻清洗工藝。APPLIED MATERIALS P 5000具有靈活的環境,能夠有效處理具有多種沈積溫度、通量、腔室配置和氣體組合的材料。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000以其前身的能力為基礎,還具有系統可擴展性,能夠適應更復雜的沈積。該系統還改進了源壽命，擴大了源範圍，改進了用於控制特定工藝參數的綜合烤箱傳感器。應用材料P5000反應堆有三種室構型：單室構型（SC）、雙室構型（DC）和三室構型（TC）。該腔室采用不銹鋼結構，可更換金種子蒸發器模塊，以提高均勻性和完全可編程的氣體分布，在沈積化學中具有靈活性。每種配置的一系列來源和組件有助於確保即使在大型基板上也能均勻和一致地沈積材料。P 5000可用於沈積多種材料，包括鋁、鈦、硝基摻雜鋁、鉻、喹、鎢和二氧化矽。精密控制工藝參數、均勻沈積、高通量的能力，使得沈積質量高，不符合成本最小化，處理時間短，效果最佳。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000改進的節能冷卻技術使沈積面積更大、更均勻、平整度更好。此外,該系統還配備了一些組件,這些組件的設計目的是通過自動化常見任務來減少維護和停機時間,包括自動交換源和泵、改進射頻和偏置匹配以及自動進行運行結束傳感器校準。總體而言，P5000是一個先進的、多用途的等離子體CVD反應堆，用於沈積各種材料，滿足各種加工要求。它是在多種過程中實現高質量、高產成果的理想選擇。