二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9177255 待售
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ID: 9177255
Etcher
(2) Chambers
Cleanroom: 4", 5", 6" robot
(15) Slot storage elevators
IPT P/N: 10A0207-5 Rev D
Mini SBC reset
(2) Analog inputs
(2) Analog outputs
VGA Video
(3) Program run stepper conts
(5) DI / DO +24 V HB
(3) LH Turbotronik NT 340 M
Magnetic bearing PCB V 2.0
(2) TC Gauges
Lambda LIS-31-12, 12 V +/-5%, 1.25 A @40 C
Carlton-bates WBPS-15-7 15+/- 5%, 7.0 A @40 C
Lambda LIS-71-15, 15 V +/- 5%, 5.0 A @40 C
Buffer I / O
AI MUX
(2) OPTO
(4) APPLIED MATERIALS Chopper drives
APPLIED MATERIALS 0850-00088 Wall mount display panel
Includes components:
PC Endpoint:
Part no: 0010-36543
REV F
471-KM
Chamber A:
APPLIED MATERIALS RF Match:
P/N: 0010-33566
Chamber C:
APPLIED MATERIALS RF Match:
P/N: 0010-33566R
Chamber D:
APPLIED MATERIALS RF Match:
P/N: 0010-33566R
LUXTRON 1104 Monochromator
Options: 5001-1104-20-00
(3) VAT 0300X-MA24-1006 / 0490 A-273567 Throttle valves
(3) 1 Torr pressure transducer manometers
Circuit breaker panel
(2) Frame side panels
(3) Remote generator I / O cables
Remote NESLAB I / O cable
(3) Remote pump start cables
(3) Remote vacuum I / O signal cable
(3) RF Generator cables
(3) RF Match I / O cables
Robot alignment controller.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000工藝室是一個功能齊全的高性能反應堆.該反應堆為實現最大的沈積速率、均勻性和過程控制能力而設計,包括用於N2或O2氣流控制的集成InLine直接測量（IDM）設備,以及經過驗證的等離子體源、先進的電子回旋共振技術、熱線損壞保護以及超長壽命的優越空氣鎖定。AMAT P-5000具有254mm x 304mm的大加工面積,是大型和小型生產中加工各種基材的理想選擇。該系統包括一個1桿真空源，結合先進、精密的無油泵送系統，包括分子阻力泵和渦輪分子泵。這種組合提供了高達每秒200,000升的超大抽水速度，允許快速、可靠的工藝周期。較大的加工面積旨在實現最大吞吐量,並在一次運行中提高生產蠟。該裝置還配備了先進的直流和射頻電源，允許金屬、氧化物、多晶矽、電介質和氮化物的光滑、可靠的沈積。其電子回旋共振技術效率高，保證了整個晶圓區域的均勻沈積條件。采用獨特的兩步法，以最小的氣體和功耗確保高沈積速率。熱線保護、短路保護、低壓保護、過壓保護等安全特性為安全過程提供了額外保證。APPLICED MATERIALS P 5000也兼容了廣泛的加工氣體和易燃儲罐，而內建的氙氣進料器可以方便的過程調整而不需要外部氣體供應。這臺機器還支持各種可選配件，包括離子源和離子室、德加系統、頻譜分析儀和晶圓提升機構，以及一個非常容易使用的直觀控制軟件。總之，應用材料P5000工藝室是金屬、氧化物、多晶矽、電介質和氮化物高效可靠沈積的理想選擇。其高吞吐量的能力，加上ECR技術等先進功能和內置氙氣進料器，使其成為任何需要平穩可靠的工藝周期並取得可靠成果的應用的絕佳選擇。
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