二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9179591 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9179591
晶圓大小: 6"
優質的: 1995
PCVD TEOS System, 6" Mark II frame Chamber and gas configuration: (3) PETEOS (3) Chambers for TEOX A: 1100 sccm N2, 1 sccm N2, 3 slm N2 TEOS Bubbler B: 1100 sccm N2, 1 sccm N2, 3 slm N2 TEOS Bubbler C: 1100 sccm N2, 1 sccm N2, 3 slm N2 TEOS Bubbler Chuck type: Mechanical clamp Elevator size: Short Frame type: Standard Loader type: Manual Loadlock Gas box: Hot RF Matches Indexers Automated cassette-to-cassette handling Does not include: Dry pumps Chiller Heat exchanger Spare parts Turbo pumps Controllers Generator racks AC Power box 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)反應器。它是一種工業級、高通量的工具,用於薄膜沈積應用。AMAT P-5000為半導體、氧化物和金屬等薄層材料在光電、數據存儲和微電子器件生產中的沈積提供了理想的環境。應用材料P 5000利用一個雙級管道,容納一個工藝室和反應室。該工藝室包含基板,可加熱至最高溫度500 °C。反應室容納等離子體源和控制電子設備,負責等離子體的產生和監測。在反應室中,等離子體是通過射頻源產生的,並由三個氣源--氮、氙和氫--維持。底物受到高能離子的轟擊,這些離子作為蝕刻劑或沈積劑在底物上形成薄膜層。12步工藝循環意味著基材可以在數小時內處理,並具有高度的可重復性。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000提供了易於重復和一致結果的工具設置,並通過用戶友好的軟件提供了靈活性。它的設計和制造是為了滿足各種薄膜沈積工藝的具體工藝要求,有各種配方和工藝化學方法兼容。P 5000是一種可靠的沈積系統,可用於多種應用,從微電子學到數據存儲到光伏電池等。它旨在允許快速高效地生產具有高質量保證的第一次正確的集成電路。它還提供過程控制、自動化和數據收集系統,以便在低溫下對非常薄的均勻薄膜進行一致和準確的沈積。總體而言,AMAT P 5000是一種工業級、高通量的PECVD反應堆,具有很高的靈活性、效率、一致性和可靠性。憑借其先進的特點和高度的過程控制,可以幫助創建高質量、高精度、高產量的集成電路。
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