二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9186158 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種用於化學氣相沈積過程的反應器，特別是用於在半導體晶片上沈積薄膜。這類設備在晶圓的整個表面上提供極為均勻的薄膜沈積，使其非常適合制造復雜的電子元件。AMAT P-5000是一種溫度控制的水平多源旋轉晶片反應器，設計用於低壓和高壓處理。它的設計由兩個源和八個淋頭組成，全部以圓形配置排列。一個單一的源位於反應堆的中央，並向淋浴頭傾斜。這種設計允許在整個晶片表面均勻沈積薄膜，提供高質量的產品。APPLICED MATERIALS P 5000能夠在500至950°C的溫度下運行，並配備了一個紅外溫度傳感器，可監控整個晶圓表面的均勻性。此外，閉環溫度控制系統有助於精確調整溫度，使薄膜在晶圓上均勻沈積，並允許處理單層和多層結構。系統頂部是一個真空室，容納淋浴總成，並保護其免受環境影響。這個真空室裝有氣體分銷商，這有助於確保氣體向淋浴噴頭的均勻分布。淋浴頭組件由水平彎曲的噴嘴組成，以本質上是長方形的圖案排列，中心有一個圓形開口，圓角有四個額外的噴嘴。與真空室相鄰的是處理室，它容納基板--通常是矽片--並且與淋浴頭直接接觸。工藝室內部是一個高真空泵，它在腔內維持所需的氣氛。最後，AMAT P 5000套件包括頂部溫度和速度控制器，能夠精確控制化學氣相沈積過程的參數。這樣可以確保材料均勻地沈積在晶片上，並且材料特性如結晶度和表面粗糙度高度均勻。這些控制器的組合為所有類型的薄膜沈積提供了最佳參數設置。