二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9198050 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是用於制造半導體晶片的高效反應堆設備。它由幾個關鍵組件組成,這些組件都安裝在一個單一的集成平臺中。該工藝室是AMAT P-5000的主要組成部分，用於半導體晶片的加工和沈積層。它是一個水平的，直徑335mm的真空室，有250 mm的石英船系統，周圍是石英壁。使用兩臺250W微波發生器、兩臺30KW感應耦合器和兩臺20KW電子束噴槍加熱工藝室，使其達到高達1300 °C的溫度。它還設有一個帶有入口和出口端口的煤氣箱和一個在加工過程中提供所需氣體的氣體分配裝置。等離子體源是APPLIED MATERIALS P 5000的第二主要成分，用於生成加工所需的等離子體。它包括一個300W電感耦合發電機、一個磁控管源、一個氣體分發器和一個F系列線圈機。等離子體源通常以「放任」模式運行，並具有可選的壓力，從而可以精確控制離子能量和沈積速率。射頻發電機是AMAT P 5000的第三大部件，用於為腔室供電。它提供最大150kW功率，可在300-1000 kHz的脈沖頻率範圍內調節。其主要目的是提供加工室中晶片所需的功率。射頻過濾工具是P-5000的第四個主要組成部分，用於增強資產的整體性能。它包括三個濾波器，以提供最大化的功率效率和電路保護。第一個濾波器，即開關濾波器，降低高頻噪聲，而第二個和第三個濾波器，分別是Pi和Chebychev濾波器，減少馬刺和帶外排放。APPLIED MATERIALS P-5000的最後一個關鍵組件是它的控制器，它能夠在處理過程中對所有組件進行精確的監控。它包括一個模擬控制回路，用於監測反應堆溫度、壓力和其他參數，以及一個數字控制回路，用於控制腔室、等離子體源和射頻發生器的功率水平。APPLICED MATERIALS P5000是用於制造半導體晶片的高效、通用的反應器模型。它的集成平臺，由工藝室、等離子體源、射頻發電機、射頻過濾設備和控制器組成，允許對沈積過程進行精確控制，使高質量的半導體能夠始終如一地生產出來。