二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9199844 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種用於處理半導體晶片的最先進的低壓等離子體反應器。該設備專為各類材料和表面的受控沈積、蝕刻和清潔而設計。AMAT P-5000能夠處理高長寬比光刻膠應用.它在等離子體系統中是獨一無二的,因為APPLIED MATERIALS P 5000可以處理前端線（FEOL）和後端線（BEOL）操作的高級材料。它配備了能夠提供高達400 W射頻功率的高功率射頻（RF）發電機，提供卓越等離子體均勻性和選擇能力的獨特工藝室，以及針對矽基基板優化的強大的可編程自動化。AMAT P 5000是高長寬比工藝的理想選擇,例如窄尺寸線和間隔的陣列。它通過使用集成的熱墻射頻發電機提供出色的蝕刻速度和選擇性,可提供高達400 W的射頻功率。這樣就產生了一個較大的處理窗口,有助於減少實現改進過程結果所需的過程步驟數量。AMAT P5000利用內部蝕刻氣體,壓力為0.1-100 mTorr,溫度控制高達450°C。它提供了一個高性能的自動化系統，使氣流、溫度和壓力設置在整個處理過程中實現最佳組合。此外,還可以針對各種進程輕松修改設備設置。該機的專有腔室設計由先進的雙模水冷PREDSTORM®襯裏組成，可有效降低等離子體的不均勻性，增強工藝能力和可重復性。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000專利的垂直幾何熱優化徑向長（VG Tylor）噴射工具有效地為您的工藝提供排氣（真空）和工藝及凈化氣體。P5000提供出色的PC和移動通信功能,使您的員工能夠從任何地方監控和管理資產。該模型利用強大的烤箱控制模塊（OCM）進行精確的溫度控制、原位診斷和全晶圓級工藝控制，以實現最大的工藝重復性。總之，APPLIED MATERIALS P-5000是一種先進的高科技晶圓反應器，提供無與倫比的工藝控制，能夠進行高質量的沈積、蝕刻和清潔操作。它提供卓越的氣體均勻性、出色的溫度控制和令人印象深刻的PC/移動通信功能。如果您的設備希望執行高質量、高長寬比的處理,那麼P-5000是理想的選擇。