二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9210301 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是為半導體制造而設計的先進等離子體工藝反應器。該反應堆提供了一系列功能，旨在滿足現代半導體加工日益復雜的要求。該設備可用於各種工藝，包括蝕刻、沈積和植入。AMAT P-5000的特點是具有多區域抽吸式工藝室,旨在促進更高的吞吐量、更好的均勻性和提高產量。腔室被一系列緊密耦合的輔助過程模塊包圍，包括遠程等離子體源、射頻發生器、控制器、電子回旋共振箱和質量流控制器。APPLIED MATERIALS P 5000還具有集成的表面表征功能,使其能夠測量膜厚度、電阻率和其他參數。AMAT P5000使用直驅真空系統維持低壓環境。這使得腔室達到5 mTorr的基本壓力，使得反應堆非常適合高壓和低壓等離子體過程。該裝置還具有可調氣體系統，可進行精確的氣流控制，從而促進可重復的工藝結果。P-5000設計用於涉及各種蝕刻、等離子體增強化學氣相沈積和離子束植入的高性能等離子體操作。它具有大的單片、中心開口的晶片，以及高達8英寸的小的多片晶片。大晶片可以加熱到130 °C，小晶片可以加熱到400°C。該機還具有高速晶片裝卸能力和高速氣體面板，可快速、精確地輸送氣體。APPLIED MATERIALS P5000設計用於多種應用,包括制造VLSI電路、半導體電源設備、MEMS設備和光學結構。該工具由強大的主機資產支持，可用於監視和控制設備參數，如壓力、晶圓溫度和時間。軟件還包括3D建模功能,可用於可視化和優化過程結果。AMAT P 5000是一種功能豐富的先進反應堆，旨在滿足半導體行業不斷發展的需求。反應堆提供精確的溫度、壓力和氣體控制，允許對過程環境進行詳細的控制。P5000具有大晶圓容量、高速晶圓處理和高精度工藝能力，是各種先進等離子體工藝的理想解決方案。