二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9238731 待售
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ID: 9238731
晶圓大小: 8"
優質的: 1990
CVD System, 8"
Process: SION
Process chamber:
Chamber A, B & D: SION
Chamber version:
Chamber A, B & D: Standard
RF Generator type:
Chamber A, B & D: OEM-12B
Dry pump type:
Chamber A, B, D & L/L: EDWARDS QDP40 / QMB250
Throttle valve type:
Chamber A, B & D: Non heated
VME System:
20 Slots
CPU: Synergy
Video: VGA
SEI
(2) AI
(2) AO
(4) DI/DO
(4) Steppers
Hard Disk Drive (HDD)
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Process kit type:
Chamber A, B & D: SIN
Manometer type:
Chamber A: MKS 626A-21512
Chamber B & D: MKS 122B 11441S
RF Matching box type:
Chamber A, B & D: 0010-09750D DR
System electronic type:
(2) TC Gauges
Buffer I/O
AI MUX
(2) OPTO
(4) Choppers
+12VPS
+15VPS
-15VPS
Storage elevator: 8 Slots
Cassette handler: Phase III, Top clamp
Robot: Phase III
Blade: Phase III
I/O Wafer sensor
Load lock purge
Heat exchanger:
AMAT0:
Connect to chamber A, B & D: Wall / LID
Main frame front type: Through-the-wall
Standard remote frame
TC Gauge type:
Chamber-A Rough: VCR
Chamber-B Rough: VCR
Chamber-D Rough: VCR
L/L Rough: VCR
L/L Chamber: VCR
Lamp module type:
Chamber A, B & D: STD 0010-09337
Mini-con
Magnet driver type:
Chamber A, B & D: P/N 0015-09091
Gas panel type: (28) Gases
MFC Type (Main):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model
B / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
A / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
D / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
D / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
D / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
D / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
MFC Type (Remote):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model
B / N2O / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
D / N2O / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
D / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
1990 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一個高性能的最終用戶平臺，用於生產先進的半導體材料，包括單和雙介電堆棧、應變矽層、金屬閘門和其他先進的器件層。它是半導體制造的「一體」平臺,旨在為客戶提供經濟高效的復雜設備結構制造解決方案。就其技術規格而言，AMAT P-5000是一種高溫、等離子體為主的間歇反應堆。它配有先進的控制器板，能夠實現離散調諧，並提供閉環處理能力，以確保沈積過程中最高質量的層層形成。此控制器包括一個增強的用戶界面,為操作員提供必要的工具,以便快速準確地修改流程參數以滿足特定的設備要求。APPLICED MATERIALS P 5000的核心是熱絲源等離子體源，它允許高效、低成本的金屬層沈積，厚度可達9200埃。熱絲源能夠產生高達1000 °C的溫度，並且可以調整以產生單晶或多晶層。此外，它的原位特性允許瞬間微調和消除晶圓表面的成核位點。AMAT P5000還配備了一個與潔凈室兼容的「空氣幕」設備，以確保幾乎無顆粒的生產環境。空氣幕采用多級過濾系統，旨在減少汙染和盡量減少空氣中的微粒撞擊。該單元還有助於減少加工室內的顆粒負荷，因為它可以防止顆粒進入工藝環境。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000還配備了高級診斷機器，使操作員能夠密切監測和檢測沈積過程中的缺陷。此工具包括高級軟件程序,允許用戶快速輕松地設置和管理沈積過程。此外,P-5000還包括一些安全功能和創新的設計增強功能,如熱關閉閥、內部密封件和壓力傳感器,以確保操作員的最高級別安全和協議。總之，P 5000是一種強大、可靠、高效的反應堆，專為滿足現代半導體制造的需求而設計。其先進的控制器板和清潔室兼容的空氣幕資產確保了一個幾乎無顆粒的環境，具有準確、可重復的過程狀態，可以被密切監控和快速、準確地調整。AMAT P 5000對於那些希望以經濟高效的方式生產復雜的設備結構的人來說是一個極好的選擇。
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