二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9243884 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種先進的蝕刻反應器，旨在為半導體制造工藝提供超高速率蝕刻性能。AMAT P-5000在-25°C至500°C的溫度下運行,具有先進、高效的等離子體源,可提高蝕刻速率和提高蝕刻均勻性。APPLICED MATERIALS P 5000采用雙腔室設計，由上下腔室組成，可方便地重新配置，以適應不同的蝕刻工藝。上腔包含等離子體源，下腔容納蝕刻氣體和真空成分。模塊化設計使AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000設備能夠根據特定的工藝要求輕松定制。AMAT P 5000的先進等離子體源利用大功率射頻發生器和堅固的磁控管在處理室內產生強烈蝕刻等離子體。等離子體是在高密度（最多3 Watts/cm2）下產生的，用於在不損害周圍電路完整性的情況下，精確地蝕刻材料。P 5000還具有獲得專利的雙電離器設計,可提高工藝產量。雙電離器系統使用兩臺獨立的高頻射頻發生器，在整個處理室內創造出強大而均勻的離子能量分布，從而提高蝕刻均勻性。APPLIED MATERIALS P-5000設計用於運行多種晶圓尺寸和基材,包括低熱預算設備。為了更好的安全和方便，該機組采用了集成的溫度維護機、自動射頻功率調節以及可靠的高效幹泵。為了獲得最大的靈活性,APPLIED MATERIALS P5000提供了多種附件,如射頻匹配網絡、排氣泵、電纜套件和控制套件。該工具還與多個監控系統兼容，包括AMAT Pro E-200控制器。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000是一種先進的蝕刻反應器,可幫助半導體制造商在超高速加工速度下精確地蝕刻材料。該資產利用雙腔室設計和高效磁控管在腔室內部產生強大、均勻的等離子體。P5000與多個晶片和基板尺寸兼容,並通過廣泛的附件和控制系統為用戶提供最大的靈活性。