二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9252545 待售
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單擊可縮放
ID: 9252545
晶圓大小: 6"
優質的: 1994
TEOS System, 6"
With heat exchanger
(3) CVD Chambers
Etch back chamber
(2) DxL Chambers
(2) Etch Chambers
8-Slot storage
Hot box
1994 vintage.
AMAT Inc.AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反應器是一種化學氣相沈積（CVD）工具，用於沈積來自半導體工業中各種揮發性前體的薄膜。設計以水平配置、單晶片為基礎的加工室為基礎，提供足夠的環境溫度和壓力以保持均勻的薄膜厚度，同時保持整個工藝控制和靈活性。該設備采用熱壁定向流動室，其加熱範圍為150-600°C。內部壓力保持在較低水平,從而可以有效地控制過程。這種降低的壓力也有助於盡量減少受控沈積環境中的汙染。腔室內填充有一種載流子氣體，是用來運送揮發性前體，例如矽烷和氮化物到底物表面的。為確保晶片表面薄膜均勻生長，腔室配有自動分配和混合系統，控制反應物的分配和整體流量。AMAT P-5000單元包括各種流程監控工具和診斷。一種多通道機器，允許多參數的原位讀取，如沈積速率和薄膜厚度。集成光發射光譜（OES）工具可以檢測異地汙染，允許快速反應和優化沈積過程。此外，反應堆可以與後CVD蝕刻資產結合使用，以便能夠蝕刻復雜的結構，例如在先進的CMOS和MEMS應用中使用的結構，同時保持整個過程在熱壁室的安全和兼容性。綜上所述,APPLIED MATERIALS P 5000實施例是最完整和最先進的CVD系統之一,能夠更好地控制沈積參數、過程監控和診斷。該模型具有優異的膜均勻性、質量和與金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）和低壓化學氣相沈積（LPCVD）等復雜沈積工藝的兼容性。
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