二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255617 待售

ID: 9255617
System, 6" CVD Chamber Etch chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反應堆是一種高輸出工藝工具,用於從預定尺寸的半導體晶圓創建集成電路。該反應堆是該公司基板解決方案(ASL)系列產品的一部分,為金屬、互連、介電和半導體薄膜等材料的沈積提供了經濟高效的高性能設備。AMAT P-5000反應堆是AMAT最先進的工藝工具.其主要的製造商目標是半導體產業,需要能提供高性能、吞吐量和準確性的工具。與其他APPLIED MATERIALS工藝相比,APPLIED MATERIALS P 5000反應堆的設計具有更高的吞吐量和提高的生產率。反應堆可以支撐廣泛的過程時間、腔室壓力和過程溫度。其最大工藝速率高達2 Mbps,集成壓力控制系統,以及先進的熱管理單元。獨特的可移動腔室設計便於進入加工腔室,便於維護和清潔。AMAT P5000反應器先進的工藝技術包括提高膜的均勻性,良好的基板粘附,降低拉脫值和降低應力水平。它內置的計量機可以對沈積參數以及工藝性能進行現場監測。這有助於確保流程按預期運行並保持產品質量。該裝置支持多種技術和工藝,包括ALD、CVD、PECVD、大氣壓力CVD、快速熱處理和物理氣相沈積。為了保證最優性能和工藝穩定性,反應堆可以安裝AMAT/APPLIED Materials Sub@@-Ambient Processing和Sub@@-Ambient Temperature Control。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000反應堆的設計滿足了半導體工業的嚴格要求。它配備了不間斷的刀具電源和負載端口,可在最短的停機時間內快速生產設備。腔室也可以冷卻至低於-140°C的溫度,以獲得額外的工藝穩定性。總體而言,AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反應堆是一種先進、先進的工藝工具。它提供了一個可靠、準確和高輸出的解決方案,用於從預定尺寸的半導體晶圓創建集成電路,使其成為任何半導體制造設施的必要設備。
還沒有評論