二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255619 待售

ID: 9255619
System (3) SACVD Systems with PLIS TEOS.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反應堆是一種高度先進的原位深反應性離子蝕刻(DRIE)工具,用於在多種材料中生產非常小的復雜形狀的孔和微觀結構。AMAT P-5000中的DRIE工藝效率很高,在大多數材料和工藝中可達到100 μ m/min以上的蝕刻速率。此外,它還能夠蝕刻各種真空破損最小的非導電材料,允許廣泛的制造選擇和應用。APPLIED MATERIALS P 5000具有填充溝槽的環形放電源,是對傳統磁控管源的改進。這導致更大的均勻性和更均勻的等離子體所需的蝕刻過程。此外,APPLIED MATERIALS P-5000是一種多室設備,帶有石英加工室和一個獨立室的支撐室。這種腔室功能的分離允許更有效的制造工藝,因為它允許更復雜的工藝和更精確的蝕刻進行,而不占用任何加工或支撐腔室空間。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000採用多層易感器技術,確保對蝕刻和基板環境的實時精確控制,同時消除熱處理對基板的傷害。此外,全金屬基板緊固系統允許精確、高效地定位基板,從而提高產量和更好的蝕刻分辨率。此外,P-5000的閉環冷卻/加熱裝置可確保整個蝕刻過程中的溫度一致性。P5000能夠蝕刻各種材料,從金屬到電介質,包括III-V,並且是完全自動化的;使P 5000成為自動化制造環境中必不可少的工具。此外,AMAT P 5000的高級控制方案提供了精確的蝕刻速率控制,從而可以輕松修改蝕刻速率,而無需重新定位感受器以更改蝕刻設置。總體而言,APPLIED MATERIALS P5000是一種多合一、高度先進的深部反應性離子蝕刻反應器。其先進的環形放電源、多級敏感器技術、多室設計使得AMAT/APPLICED MATERIALS P-5000金屬、電介質、III-V等多種材料的理想蝕刻機。其精確的蝕刻速率控制、高效的基板定位和溫度一致性,以及自動化操作,使AMAT P 5000成為任何自動化制造環境中必不可少的工具。
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