二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9257152 待售

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ID: 9257152
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
CVD System, 8" Chamber type: Ch-A: Delta lamp CVD, SIN Ch-C: Orient Ch-D: Lamp CVD, SIO2 RF Gen type: Ch-A: ADTEC AX-1000AM II, 13.56 MHz VME Type: (20) Slots Sto. Elevator type: 29 Storage Cassette clamp type: Top clamp H/E: AMAT-0 Robot type: Phase I/O Sensor Torans type: Δ-Y 81 kVA Gas panel type: 28 Line type Remote AC box: AC Box, non-frame Missing parts: Video board SBC Board Floppy Disk Drive (FDD) 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor是AMAT的旗艦產品,AMAT是半導體行業先進工藝設備和服務的全球領先供應商。為提高先進集成電路制造工藝的生產率而開發的AMAT P-5000反應器是現有最先進的離子植入沈積設備。APPLIED MATERIALS P 5000提供70至150毫米晶片的全晶片覆蓋,使用戶可以生產高效、全範圍的錯綜復雜、纖薄的功能性膜層。此外,該系統旨在提供對惰性或反應性氣體流動、劑量、能量和停留時間的高度精確控制,使其成為快速生產高質量層如無定形或結晶氧化物、氮化物和其他化合物的理想選擇。APPLICED MATERIALS P5000還具有獨特的低阻尼器單元,有助於最小化粒子並優化層均勻性。這與其卓越的真空能力相結合,使P-5000能夠以一致的質量和可靠性處理大量的晶片。而且機器配備了先進的電離源,使用戶能夠選擇適合自己應用的最佳源。在安全方面,AMAT/APPLICED MATERIALS P-5000具有安全和冗余的操作安全功能,具有高度的保護,包括一個五級安全工具,有助於減少操作過程中發生錯誤和違反安全的風險。此外,P5000的設計符合半導體行業的清潔空間和安全規定,提供了一層寶貴的保證。AMAT P 5000是一個理想的工具,如果你的過程需要精確控制各種材料的沈積。此外,植入源的選擇和對不同植入源特性的了解,確保了最高層質量的實現。最後,AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000具備了資產強大的安全保障規定和令人印象深刻的全面功能集,是最先進和創新的制造工藝的重要組成部分。
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