二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9267680 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種先進的化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於處理半導體和電子工業中的各種材料。它是一個單晶片，線性驅動，感應耦合等離子體反應器，有一個大的腔室和一個寬的過程窗口。AMAT P-5000采用原位過程監控、獲得專利的鉆探驗證設備和先進的氣體輸送系統設計,可實現精確、實時、響應時間快的過程控制。這使得可重復和可靠的處理具有出色的均勻性和高吞吐量,以及嚴格的過程控制。APPLIED MATERIALS P 5000的腔室尺寸為375mm，最多可容納300 mm晶圓。優化處理高長寬比和3 D結構。專利的線性「X-Drive」使P 5000提供0.1 µm等離子體控制和全晶片擺動，提高晶片表面的均勻性。它配備了先進的風扇控制單元，以優化沈積均勻性。除了高性能外，P-5000反應堆還設計了長壽命周期，並針對低擁有成本進行了優化。它由低振動部件、高絕緣和低粒子計數材料牢固地構成。AMAT P 5000還配備了優化的工程系統，便於維護，避免了昂貴的服務合同的需要。APPLIED MATERIALS P-5000具有完全集成的過程控制器和診斷機器,可與生產線完全集成,以實現實時過程監控和產品可追蹤性。它可以與幾乎所有類型的行業標準配方和數據庫系統通信,包括Factory Talk Production Centeral、Solectron的WATRM和Applied的專有CMP Lite。它還提供了多階段生產工藝優化，以提高產量和周期時間。AMAT P5000支持多種材料，包括氧化物、氮化物、金屬、類似金剛石的碳和有機膜。反應堆特別適合於先進的互連、高k內存和邏輯、MEMS和傳感器、III-V光電器件和OLED顯示器。APPLICED MATERIALS P5000還為3D應用程序和內存設備提供了出色的步驟覆蓋範圍和較長的沈積壽命。P5000是一種先進的CVD工具,非常適合半導體、電子和工業過程。它具有堅固的線性驅動、全晶片擺動和精確的過程控制等突破性性能。該反應堆設計精密、可重復沈積，均勻性好，通量高，使用壽命長。