二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9280086 待售

ID: 9280086
晶圓大小: 8"
Etcher, 8" Chamber A and B: MxP Metal Chamber D: Strip Mark II Mainframe 29 Slots storage elevator Helium cooling Expanded VME Robot: Phase III Cassette: Phase II AC Remote frame Cables: Digital and analog Emergency interlock cables Heat exchanger: AMAT 0 RF Generators: ENI 12A and 12B ASTEX Microwave Options: (2) ALCATEL Dry pumps and booster pump.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種高度可靠和高效的基於等離子體的半導體反應堆。它使用多種高級功能構建,以確保高效的性能和最大的生產力。AMAT P-5000是一種單室徑向流動等離子體反應器,設計具有最大的可擴展性和多區靈活性。APPLIED MATERIALS P 5000的初始源氣體配置包括Ar-Cl2,能夠從該單一組合中產生多達五種不同源氣體。該可變源可用於多晶矽沈積、柵極氧化物形成、多矽柵極矽化等應用。五區可調工藝參數可以精確控制蝕刻和沈積工藝。同時,電介質壁和長壽命封裝電極有助於減少顆粒汙染,保持工藝的均勻性。AMAT P 5000包括一個等離子體源發生器,能夠在廣泛的頻率範圍內產生高度均勻的等離子體。反應堆強大的動力傳遞和控制能力確保了可靠的性能過程產量。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000具有自動加載/卸載功能,可容納多達16個200 mm晶圓或13個300 mm晶圓。溫度均勻性由發電機的集成冷卻模塊保證。AMAT P5000除了具有先進的功能外,還包括若幹安全功能。FM O2監視器在氧氣含量超過預設限值時自動關閉氣體供應,以避免潛在危險。此外,氣閘在檢測到未經授權進入時,會自動關閉艙門,從而防止操作員與操作環境接觸。總體而言,P-5000等離子體反應堆是半導體制造的絕佳選擇。它為高端蝕刻和沈積過程提供卓越的性能、可擴展性和安全性。APPLICED MATERIALS P5000具有強大而高效的設計,是任何尋求可靠且經濟高效結果的工廠的理想選擇。
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