二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9284522 待售
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已售出
ID: 9284522
優質的: 1995
CVD System
Process: Depo rate
Oxide: 6000 A/min
Uniformity: 5%
(12) Gases:
Gas no / Sccm / Gas
1 / 200 sccm / Sih4
2 / 100 sccm / NH3
3 / 3000 sccm / N2
4 / 2000 sccm / N20
5 / 2000 sccm / CF4 / SF6
7 / 200 sccm / Sih4
8 / 100 sccm / NH3
9 / 3000 sccm / N2
10 / 2000 sccm / N2O
11 / 2000 sccm / CF4 / SF6
AC Power
Mainframe configuration:
Mark Ⅱ, 6"
I/O Wafer sensor
(21) VME Slots
Phase 3 Robot
Phase 3 Cassette handler
(8) Slots storage elevator
Viton O-ring
Clean gas box
Pressure control system
Throttle valve
Isolation valve open / Close type
Temp control: Lamp heated
Vacuum system
Chamber: EDWARDS QDP80+QMB500 Pump
Load lock chamber: ADP80
Nitrogen
Compressed air: CDA / N2
Exhaust
Fuse: AC/DC Power box
RF Power supply: 1.2 kw and 13.56 MHz
Power supply: 208 V, 200 A, AC Input, 3 Phase, 5 Wires
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor是一種用於全面薄膜沈積工藝的最先進的設備。AMAT P-5000采用物理氣相沈積（PVD）技術,非常適合各種基材的優質保形塗層和硬塗層要求。APPLICED MATERIALS P 5000配備兩個電源，實現獨立脈沖控制和集成門閥，提供卓越的溫度均勻性。AMAT P 5000還可以配備內置高壓發電機，讓沈積過程針對特定應用量身定制。此外，P-5000還可與膨脹室、進氣泵、真空泵、負載鎖和提升閥集成在一起，確保高質量的薄膜沈積，具有優異的工藝再現性。AMAT P5000反應堆配備了易於操作的用戶友好控制界面和先進的安全協議。此外,AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000還提供了高級的過程控制功能,能夠通過強大的自動化實現完整的過程參數設置。應用材料P-5000反應堆可容納450mm以下的基體，在廣闊的區域內提供卓越的均勻性和沈積速率。P5000配有獨特的腔室設計，可以加工各種尺寸和形狀的基板。AMAT/APPLICED MATERIALS P-5000 Reactor是一種有價值的技術，用於快速、經濟地生產具有卓越質量和工藝重復性的復雜薄膜。反應堆是許多需要提高性能、提高安全性和加強控制的行業的完美工具。通過消除傳統的沈積工藝和引入自動化、高度均勻、快速和可靠的沈積工藝,P 5000在各種基材上提供了卓越的薄膜均勻性、附著力和光滑覆蓋。這使得它成為塗覆各種基材的最可靠和最值得信賴的技術之一。
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