二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9291957 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是為生產薄膜沈積而設計的化學氣相沈積（CVD）設備。這一高效反應堆設計用於處理厚度為5nm的矽層、氙層和氮化氙層。反應堆有一個直徑為300毫米、長度為250毫米的圓形腔室。該室的基座由一個容量為12千瓦的高溫爐組成。這種獨特的設計使腔室的溫度得以精確控制，沈積速率進一步優化。AMAT P-5000反應堆配備了先進的磁懸浮機械真空泵，提供無大氣真空水平。在這種低壓系統下，矽、氙和氮化的沈積速率大大提高。其設計目的是在腔室中保持非常低的壓力，以確保在整個基板上有高度均勻的層生長。該裝置還配備了先進的氣體輸送機，便於精確控制加工氣體。該工具支持多種工藝氣體，允許多用途的沈積。APPLICED MATERIALS P 5000設計為AS-PET Poly Hot Lamp，具有將基板加熱至最高1,000 °C的能力。這一特性允許使用一系列的底物材料，如多晶矽、多矽酸鹽玻璃、聚環氧乙烯和聚鄰苯二甲酰胺。此外，P5000還采用了獨特設計的石英燈，可實現細粒工藝控制。資產的穩定性對薄膜的質量也至關重要，AMAT P 5000表現出色。密封腔室以防止任何短期大氣波動，而閉環氣體輸送確保腔室永久保持在恒定壓力下。高度先進的溫度控制和穩定系統還確保腔室保持在一致的溫度和壓力下，以確保最高質量的薄膜層。在處理方面，P-5000反應堆效率非常高。該設備配有內置冷卻模型和風扇,無需任何外部冷卻源即可快速冷卻基板。此外，由於結構輕巧，該室極易進入和操作。APPLIED MATERIALS P5000設計尺寸緊湊,幾乎可以放在任何實驗室臺面上。總體而言,APPLIED MATERIALS P-5000是一種用於薄膜層生產的有效CVD系統。它提供精確的溫度控制和極其耐用、重復的結果。它非常適合各種材料的沈積，並已被證明是研究人員和工業專業人員的一個熱門選擇。