二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9292241 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種多腔高通量表面處理室,具有最先進的功能,旨在為各種10納米以下集成電路應用提供高性能的精密處理。該腔室提供了一系列的功能尺寸低至0.3nm，即使在極低劑量達一位數的納米安培下也能提供強大的性能。它為精確的輪廓控制、高氫靈敏度和納米級的精確控制提供了卓越的並行性，以滿足IC生產的要求。AMAT P-5000是一種先進的等離子體增強型化學氣相沈積（PECVD）源.它使用了強大的源室、超快的泵速度以及先進的變溫過程控制，以減少處理幾乎任何基材所需的時間。此功能允許客戶在一小部分時間內將其流程投入生產。該反應堆的獨特之處在於，它通過提供變溫控制作為系統標準，提供了前所未有的工藝參考精度。APPLIED MATERIALS P 5000使用四象限溫度控制，確保反應堆區內氣體的溫度能精確匹配客戶的溫度曲線。P-5000還提供了一個獨特的「等離子體就地」功能，可以確保由於基板的快速冷卻和重新加熱而造成的最小熱損害。這種等離子體就位能力還有助於通過在沈積循環的熱加速循環期間保持均勻的基質溫度來防止基質上的沈積異常。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000旨在提供卓越的性能,使客戶能夠在不需要高水平專業知識的情況下實現所需的流程結果。P 5000提供了一個用戶友好的控制界面,使客戶能夠監控流程參數,即時進行調整,並結合流程反饋以改進流程控制。APPLIED MATERIALS P5000還具有完全杠桿化的PECVD功能,使客戶能夠在一個經濟高效的系統中利用PECVD的優勢。AMAT P 5000支持多種不同的工藝配方，包括基板級修補、光刻、退火和氧化工藝。集成的硬件、軟件和預先配置的配方數據庫簡化了設置過程,並最大限度地減少了開發和調整介電堆棧及其他應用程序所需的時間。總之，P5000是一個強健、功能豐富、先進的表面處理室，用於10nm以下的IC應用。該反應堆提供了卓越的精度和性能，以及用戶界面和對簡化、經濟高效的工藝的多種配方的支持。