二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9292243 待售
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ID: 9292243
晶圓大小: 6"
優質的: 1995
PECVD SiO2 / SiN /dry etcher, 6"
Mark II frame
Chambers and gas configuration: Dry etch, TEOX, SIN
(3) Chambers for Dry Etch, TEOX, SIN
(1) PTEOS Chamber
(1) Oxide etch Chamber
(1) SiN Chamber
A: 50 sccm N2, 1 slm N2, 1 slm O2, 3 sccm N2, SiH4
B: 200 sccm Ar, 3 slm N2, 3 000sccm N2, 1 slm N2, 100sccm NH3, 500 sccm N2, (SiH4)
C: 1100 sccm N2, 1 sccm N2, 3 slm N2 TEOS Bubbler
Chuck type: Mechanical clamp
Elevator size: Short
Frame type: Standard
Loader type: Manual
Loadlock
Gas box: Hot
RF Matches
Indexers
Automated cassette-to-cassette handling
Turbo pumps
Controllers
No Remote AC BOX
No generator rack
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反應堆是一種用於半導體工業的高性能再氧化工具。它專為改善當今集成電路的設計和性能而設計,用於重新氧化鋁膜和電介質膜。AMAT P-5000提供了可重復和可靠的氧化過程,從而縮短了循環時間,提高了吞吐量,降低了成本。APPLIED MATERIALS P 5000是業界最先進的再氧化技術,具有獨特而精密的體系結構,包括強大的硬件、過程和軟件技術。AMAT P5000反應堆的硬件包括高溫碳化矽敏感器和熔爐、供應活性材料的蒸發源、帶有保護氣體的石英分離管和工藝氣體輸送系統。所有這些組分結合在一起提供了一個優化的氧化過程。P5000的過程控制軟件允許用戶進行實時實驗,以優化他們的過程參數,控制溫度和流量,並對室內的化學環境進行調節。該軟件包括動力學和過程控制功能,使用戶能夠最終控制其氧化過程。APPLICED MATERIALS P5000利用AMAT精密的工藝控制技術,該技術具有四個不同的溫度區,每個溫度區的每個薄膜輸送到腔室。這有助於確保每次運行都有精確、可重復的氧化過程。此外,系統的「渦輪模式」允許在過程瞬變期間氧氣電源激增。這有助於提供更均勻的橫跨晶片的氧化剖面,從而提高產量.AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000反應器是電極在鋁膜和電介質上精確應用的理想工具。它能夠提供精確和可重復的氧化過程,從而減少循環時間,提高吞吐量,降低成本。該系統由APPLIED MATERIALS強大的過程控制軟件支持,它為用戶提供了對其氧化過程的最終控制。
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