二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9293601 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9293601
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
CVD System, 8" Process: LTO CVD, TEOS 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種用於半導體制造過程的化學氣相沈積(CVD)反應器。為了優化反應速率,這種反應堆的工作原理是將反應氣體引入反應堆室內,然後將反應氣體加熱到預定的溫度和壓力。一個充滿惰性粒子的反應室被用來吸收反應氣體分子,進而觸發一系列化學反應,將一層薄膜長到底物表面上。AMAT P-5000反應堆采用閉環爐式設計,保持溫度穩定,可精確控制沈積過程。腔室的工作原理是將反應氣體引入要加熱和加壓的空間。然後利用室內施加的功率和壓力來操縱反應速率,進而影響薄膜的沈積速率和質量。腔室的溫度範圍和壓力範圍都可以由使用者設定,允許精確控制腔室內的化學反應。應用材料P 5000還具有氣相聚類系統,用於控制顆粒的定向沈積,並消除在腔壁上堆積的任何物質。此外,還設計了支持脈沖的蝕刻系統,以提高薄膜表面光潔度的質量。P5000能夠加工各種材料,包括金屬、無機物、有機物和氧化物。由於薄膜正在沈積,反應堆還能實時監測過程,讓用戶控制和調整腔內的條件,比如薄膜的速率和質量。這樣可以確保更好的薄膜質量,並防止材料堆積在腔室的墻壁.P 5000反應器具有良好的溫度均勻性、均勻的沈積速率以及對薄膜厚度的穩定控制。這種反應器經常用於薄膜研究、半導體制造和薄膜太陽能電池制造。
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