二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9294424 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor是一種高性能、先進的沈積設備，設計用於半導體和太陽能行業。它允許薄膜的沈積，如SiO2、SiN、Al2O3、TiOx等介電材料，以及金屬膜和層，如​​的，和鈦，產生廣泛的半導體產物和太陽能電池。AMAT P-5000反應堆由一個放置基板支架的集群平臺和一個容納沈積材料的ALD室組成。集群平臺具有可調節的高度和傾斜角，以確保沈積的最大均勻性，並保持所需的塗層厚度。ALD腔室包含一系列可調節的區域,可設置為所需的壓力、溫度和沈積所需的前體。這個腔室還裝有一個RF同軸板，提供RF電源，並允許穩定、均勻的處理。應用材料P 5000反應堆利用多項先進技術確保最佳沈積結果。多平臺映射（MPM）功能允許有效匹配基板之間的沈積參數。這種映射特征還產生了每個基板的高均勻性沈積速率。Choreographic Gated Delivery （CGD）功能可精確分散並向沈積區域輸送前體,從而能夠精確控制薄膜厚度。FueliCom反應堆控制技術允許對時間、溫度和壓力進行更精確的監測，而自動對焦系統則提供導電模式和層的高精度沈積。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000 Reactor也提供了更高的生產率,具有各種基材尺寸和薄膜厚度的能力。可變特征集允許保形層均勻沈積，薄膜應力最小。此外，AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reactor可以在多種模式下連續或脈沖運行，並提供均勻的薄膜性能。用戶友好、菜單驅動的軟件可與外部應用程序集成，以進一步控制和監控。綜上所述，P 5000反應堆是設計用於半導體和太陽能工業的先進沈積裝置。它采用多平臺制圖、編排門控輸送、燃料反應堆控制、自動對焦和用戶友好的菜單驅動軟件等多種先進技術，為薄膜和金屬層提供精確控制和均勻沈積。這臺機器是生產各種半導體產品和太陽能電池的理想選擇。