二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9313502 待售
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ID: 9313502
晶圓大小: 6"
優質的: 1993
CVD System, 6"
Process: Delta TEOS
(3) Chambers
1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種高功率、高產量的等離子體蝕刻室,設計用於先進的光刻和半導體工藝。這種等離子體蝕刻室用於精確蝕刻各種材料,包括金屬、聚合物、電介質。它可以在高達50 mBar的溫度和高達500 °C的溫度下運行,從而實現高度精確的蝕刻,從而可以精確控制蝕刻輪廓。AMAT P-5000徹底改變了蝕刻工藝,為復雜的微電子元件提供了精確的蝕刻,產量更快。APPLICED MATERIALS P 5000的主要優點在於其高功率源與精確腔室設計的結合。反應堆采用高功率、全站式等離子體源,具有廣泛的頻率能力。這允許通過控制射頻頻率和施加磁場來精確控制特征的蝕刻速率和形狀。此外,使用先進的氣體混合和壓力控制保證了蝕刻深度均勻度高達+/-1%。P5000還擁有在反應堆內保持精確溫度的能力。腔室采用閉環水系統冷卻,允許嚴密的溫度控制,保證目標區域的均勻蝕刻。這也有助於增強目標材料的安全性,防止腐蝕和其他與反應有關的損害。APPLIED MATERIALS P-5000包括許多集成的傳感器和診斷工具,可實現快速、輕松的過程控制。可以實時監控和調整過程參數的控制,使用戶能夠輕松微調蝕刻過程以獲得最佳性能。憑借尖端技術和堅固的設計,P 5000是一種先進的反應堆,能夠實現卓越的蝕刻工藝性能和精度。從小型電子元件到大型設備和系統,AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000為高產蝕刻提供了可靠、經濟高效的解決方案。
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