二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9351563 待售
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已售出
ID: 9351563
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
CVD System, 8"
Chamber A / B / D:
Type: DCVD Universal
Process: Delta / TEOS
Process kit: Plasma C-Chuck
Manometer: Dual 20-1000 Torr / MKS
Clean method: RF Clean
Throttle valve: Direct drive dual spring W/C plug
Gas box MFC: UNIT MFC
Lamp driver
RF Match: Phase IV
Chamber C:
Process: Sputter etcher
Standard process kit
Manometer: Single Torr / MKS
Clean method: RF Clean
Standard throttle valve
Gas box MFC: UNIT MFC
21-Controller slots
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Robot type: Phase III
Auto-load / Unload cassette handler
Silicon-Tin-Oxide (STO) elevator type: 15-Slots
WPS Sensor
I/O Wafer sensor
Loadlock purge
Loadlock slow vent
Slit valve type: ZA Slit valve
Hot box version: Version IV
Top / Standard exhaust line
(28) Gas line panels
Mini controller
Missing parts:
Turbo pump (Chamber C)
RF Match (Chamber C)
SBC Board
Video board
Ampule
RF Generator OEM 12B I, II
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反應堆是一種堅固、高性能的生產工具,其設計目的是使材料從合金到氧化物再到電介質的沈積具有完整的表面覆蓋和優化的微觀結構。該反應堆由具有脈沖電子束和高效電離器的高效源提供動力，能夠產生高沈積速率，具有高度覆蓋和均勻性。AMAT P-5000反應堆具有集成的高功率脈沖電子束（PEB）,可均勻減速離子,在廣泛的蝕刻過程中均勻覆蓋,為深層結構提供完整覆蓋。PEB還允許在沈積過程中對材料進行高溫退火，從而改善金屬鍵合和更好的材料性能。一種可調節的雙方向端-輸液電離器允許對離子種群進行微調，從而實現有效的離子轟擊和均勻覆蓋底物。APPLIED MATERIALS P 5000是一種高通量、高性價比的反應堆系統，應用範圍廣泛。適用於微電子學領域的一系列工藝，包括電介質沈積、金屬蒸發、金屬鍍層等。該反應器也非常適合沈積有機、無機和混合膜，如絕緣體、導體和其他類型的底物。此外，該反應器適用於硬質和軟質退火過程，以改變基板的性能和微觀結構。P-5000反應器采用多級設計，能夠在沈積前對晶片進行高速清洗，蝕刻完成後對晶片進行幹燥，從而提高加工質量。該系統還包括一個專用的等離子體監測儀，以確保對腔室參數進行高效和準確的控制。此外，APPLIED MATERIALS P-5000利用氣體面板，使用戶能夠使用各種氣體進行校準或室內清潔。高效P5000反應堆非常適合在廣泛的應用中進行生產水平的操作，並得到AMAT廣泛的技術支持、培訓和服務的支持。P 5000是需要高質量、可靠和可重復結果的半導體制造過程的理想解決方案。
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