二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9356942 待售

ID: 9356942
晶圓大小: 8"
PECVD System, 8" Nitride PARC (4) CVD Chambers Wafer sense Robot Storage elevator Ergo cassette loaders UNIT 1660 Mass Flow Controller (MFC) RF Matching network Lamp modules Electrical / Pump rack RIF Rack (2) EDOCS With rack Mini controller Monitor rack Heat exchanger Cables Missing parts: Process kits Mouse.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種先進的等離子體增強型化學氣相沈積(PECVD)設備,用於各種應用的薄膜和材料沈積。該系統采用微波等離子體源和水冷淋浴板,產生多晶矽、氮化矽、氧化矽等厚度控制精確的材料均勻保形膜。AMAT P-5000利用一臺遠程微波發電機和一個獨特的高級能源輸送裝置(Advanced Energy Delivery Unit, AEDS)精確控制電力、壓力和氣體輸送到PECVD室。微波源由2.45 GHz至2.75 GHz的各種頻率組成,允許最佳膜沈積條件。AEDS的設計使微波功率、射頻功率和氣流保持精確和恒定,與腔室壓力無關。APPLICED MATERIALS P 5000反應器本身就是一個石英室,在大面積上提供極好的均勻性。該工藝室設有一個完整的外殼和自動調諧機,以確保精確的壓力,溫度和射頻匹配。P 5000還具有一個大型扁平樣品支架,可容納直徑不超過8英寸、厚度不超過1/2英寸的基板。工藝時間由APPLIED MATERIALS P-5000工具軟件控制,可精確控制薄膜沈積速率、氣流、壓力和溫度。AMAT P5000適用於低溫高溫沈積過程中的多種應用。可用於生產多晶矽、氮化矽、氧化矽等薄膜,用於半導體器件制造。其精確的控制和均勻性產生高保形和極光滑的薄膜,高質量和可靠的性能。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000是研發、工藝開發和生產使用的理想工具。
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