二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9377275 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種用於金屬介電沈積應用的反應器。AMAT P-5000具有四室蒸汽輸送設備,可提供復雜、高長寬比工藝所需的趨勢設定靈活性和卓越的長期性能。APPLICED MATERIALS P 5000具有多種先進的特性,如集成過程調節器、四重存儲高真空多腔渦輪泵/充電器以及用於數據采集和過程控制的Allen-Bradley PLC控制器。P5000利用高功率射頻和直流電源,能夠沈積在各種晶片上,包括虛擬晶片、最多晶片和塗膜晶片。該系統還包括一個可編程的數字用戶界面，允許用戶設定所需的薄膜厚度和操作溫度範圍。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000還提供了多個可編程的射頻頻率,以優化不同集成方案的過程。P-5000有一個由渦輪泵/充電器、惰性氣體噴射歧管、滲透歧管、反應性氣體噴射歧管和反應室組成的四室蒸汽輸送裝置。這種安排提供了對沈積速率和工藝一致性的最大控制。滲透和反應性氣體註入歧管使AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000能夠沈積厚度均勻、覆蓋範圍優良的金屬和介電層。反應室采用精確控制的多區加熱元件加熱，確保整個沈積過程溫度均勻。為進一步確保過程控制，應用材料P5000包括集成光學高溫計和防護屏蔽的機器。光學高溫計測量反應室內的熱量，以確保工藝溫度保持在臨界規格內。屏蔽有助於保護基板和加工氣體免受工具內任何產生的放電。P 5000提供了一整套工藝工具，以適應專門的基板、設計規則和工藝要求。該資產為特殊晶片類型提供了額外的基材處理工具，以及用於氧化保護、工藝均勻性和顆粒控制的多種保護塗層。該模型還提供端點控制工具，以限制反應溫度，防止汙染和提高可重復性。綜上所述，APPLICED MATERIALS P-5000專為金屬介電沈積應用而設計，具有四室蒸汽輸送設備和先進的功能，如集成過程調節器和可編程用戶界面。該系統還包括多個射頻頻率和集成的光學高溫計以及保護屏蔽，以確保過程控制。該單元提供了額外的工藝工具，以適應專門的基板、設計規則和工藝要求。