二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9383379 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

ID: 9383379
CVD System SNNF, 8" Wafer shape: 25-Slot SNNF Main frame: Loadlock: Standard Buffer chamber robot: Standard Process chamber (PECVD): Position A, B and C Cassette stage: Position: A and B Clamp on cassette 25-Slots Storage elevator: Center find 4-Slots Buffer chamber: Buffer type: Standard Load lock : Slow and fast Vent type: Venting and diffuser Load lock pumping type: Fast load lock pumping Slit valve: Bonded Wafer detector: Blade cap and vac sensor Gas / Pressure: Gas feed: Top Filters: MILLIPORE / PALL Pneumatic valves: Nupro / Veriflow Chamber pressure gauge: MKS 10 Torr Chamber foreline TC gauge: VARIAN Gas for chamber A: Gas / MFC SiH4 / 500 sccm N2 / 100 sccm N2O-H / 3000 sccm NF3 / 20 sccm N2O / 300 sccm Cl2 / 100 sccm Gas for chamber B: Gas / MFC SiH4 / 500 sccm N2 / 100 sccm N2O-H / 3000 sccm NF3 / 20 sccm N2O / 300 sccm Cl2 / 100 sccm Gas for chamber C: Gas / MFC O2 / 00 sccm CF4 / 20 sccm Ar / 100 sccm RF Generator and heat exchanger: ENI OEM-12B RF Generator: Chamber A and B ENI OEM-6 RF Generator: Chamber D RF match type: Phase-VI (2) RF Cable: 50ft CVD Heat exchanger type: AMAT-1 Heat exchanger signal cable: 32ft System local monitor: CRT with light pen Remote control cables (Analog, digital): (2) 50 FT Etchers Lift assembly Susceptor lift assembly Transfer robot Slit valve cylinder Wafer lift bellows Susceptor lift bellows Robot blade, 8" Throttle valve (Dual spring type) Belts in throttle valves DC Power cable: 50ft EMO Cable: 50ft Hard disk in VME Missing Power supply: 208 V, 50/60 Hz, 250 A / 5-Wires.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種等離子體CVD反應器,用於一系列材料層的表面改性和沈積。AMAT P-5000采用的等離子體CVD技術是一種低壓工藝,利用用等離子體電離的氣體混合物產生表面改性所需的反應和沈積。進行過程的容器是用不銹鋼建造的,采用雙壁方式,以確保均勻的壓力和溫度控制。腔室裝有一個足以滿足各種工藝需要的組件,布置在一個集成的電極上。然後容器內部被密封,泵開始清除空氣和其他氣體,在密封容器內產生真空。等離子體的產生是通過在容器部分以高速和低壓引入所需氣體的混合物來實現的。使用射頻發生器和電感線圈產生真空。氣體的混合物隨後被磁力產生的高能場電離。這種等離子體提供了高濃度的電子和離子,它們可以分解分子並與容器中的成分發生反應。APPLICED MATERIALS P 5000因其靈活性和堅固的設計而聞名,因為它可以容納多種組件形狀和尺寸。P-5000可實現的工藝包括氮化、蝕刻和矽沈積等。此外,該系統可以作為各種摻雜過程的註射器。APPLIED MATERIALS P-5000的多功能性使其成為許多工業和學術界研究實驗室的主力軍,其產生高質量結果的能力使其成為眾多表面改造需求的首選。AMAT P5000是一種高效、耐用和可靠的解決方案,用於改善材料表面和組件的整體性能。
還沒有評論