二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9384772 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9384772
CVD System (3) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是為納米材料的高性能沈積而設計的下一代化學氣相沈積(CVD)反應器。該反應器能夠在高達500 °C的溫度下進行單晶片處理,同時在晶片表面提供具有均勻溫度的低熱質量。AMAT P-5000提供具有獨立熱調節和冷氣輔助裝置的4區垂直反應堆設計。應用材料P 5000具有兩級加熱淋浴頭,使反應物分子均勻擴散到整個沈積室中。噴頭由垂直堆疊的冷卻袋組成,可確保反應物分子均勻分布在晶圓表面。此外,P5000的熱控設備設計為實現高溫均勻性和穩定性,以達到一致的工藝效果。它的可編程控制界面允許調整反應物組成、壓力和溫度設置。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反應堆的快速加工能力是通過使用快速氣體控制系統實現的。該單元允許精確調整氣體流速,從而以更高的吞吐量速度實現更快的工藝時間。此外,為確保均勻性和可重復性,P-5000配備了清除循環,以沖洗沈積室產生的不需要的汙染。這樣既節省了成本,又提高了過程的可靠性。在安全性方面,APPLIED MATERIALS P-5000的設計符合最嚴格的標準,包括ASHRAE Class A/B、NFPA Class 1和UL 945。反應堆包括防爆機和氣體探測系統,以保護人員和設備免受潛在危險的過程氣體的影響。AMAT P5000反應器適用於多種材料,包括石墨烯、層狀材料和碳納米管。當使用ADM雙冷卻工具進行配置時,AMAT P 5000可提供更大的溫度範圍和更復雜的沈積過程控制。這允許生產高純度和面向性能的納米材料。總體而言,應用材料P5000 CVD反應堆為納米材料的高性能沈積提供了可靠、經濟高效的解決方案。通過精確的溫度控制和快速的反應時間相結合,P 5000可以幫助制造商滿足當今最艱難的半導體制造工藝的需求。
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