二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9389400 待售
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ID: 9389400
晶圓大小: 6"
CVD System, 6"
SV21 SBC Board
Main frame type: Mark-II
Cassette indexer, 6" Clamp
8 Slots elevator
(2) CRT Monitor
Robots: Phase-III
Robot blade: Standard vacuum
Centerfinder: USE
Cap wafer sensor
AC Rack: 1 Shrink
Heat exchanger
EMO Option: Turn to release
EMO Button guardrings
Status light tower (Color / Position): Red, Yellow, Green, Blue
Signal cable: 25'
Flash hard disk drive
Floppy: 3.5" SCSI Driver
Gas panel: 12 Channels standard / Minicontroller
RF Generator:
Chamber A: OEM12B-07
Chamber B: OEM12B-02
Chamber C: OEM12B-02
Chamber:
Chamber position: A, B, D
Chamber type: DLH 1-Hole
Process: SiH4 Oxide
Heater type: Lamp
Susceptor type: Al
(3) Matchers
Delta nitride dual spring throttle valve
Gas panel: 20 Standard channels
Gas supply: Top down
MFC: SEC4400MC
Manual valve: NUPRO
Pneumatic 2-Way valve: NUPRO
MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr
Gases:
Gas / Range
N2 / 3 SLM
SiH4 / 100 SCCM
CF4 / 2 SLM
N2O / 2 SLM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種薄膜反應器設備，設計用於將薄膜沈積在諸如玻璃或矽片等基板上。該反應室的設計目的是在很寬的溫度範圍（-40至650 °C）內對從超高到超低真空水平的一系列沈積條件進行高級控制。它位於清潔室內,配有精密的熱管理系統,可進行精確的熱控制,使其能夠滿足要求最苛刻的薄膜處理應用。該單元旨在控制與薄膜生長有關的幾個變量。這些變量包括壓力、溫度、沈積速率和生長。AMAT P-5000反應堆使用超高真空沈積室，該室配有氣體混合工具、質量流量控制器、電容壓力計和FTIR機。它還包含線性和旋轉源，如電子束蒸發器和濺射槍。此外，腔室有粗加工泵、渦輪分子泵、離子泵，以及液氮閉環冷卻器，以營造薄膜可以生長的環境。APPLICED MATERIALS P 5000反應器還配備了一系列工藝特點，使其適合廣泛的薄膜加工應用。值得註意的特點包括膜厚度自動控制、溫度映射、溫度剖析、均勻性控制和實時過程監控。這些特性可以配置為確保薄膜的均勻性和應力。\AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000的自動化能力使其適合多種應用。特別是它被用於沈積氧化物、氮化物和金屬，以及蝕刻薄膜和進行材料的鈍化和燒蝕。此外，由於其精確的壓力控制，適用於薄膜沈積的非蒸發方法，如磁控管濺射和CVD。最後,APPLIED MATERIALS P5000是一種易於操作的工具,具有高級安全功能。它配備了氣體泄漏探測器、緊急關閉資產，並對操作參數進行嚴格監控，以符合最嚴格的安全規定。
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