二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9400379 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9400379
CVD System.
AMAT或AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種化學氣相沈積(CVD)反應器,用於薄膜沈積,由一個加熱室組成,帶有石英窗和淋浴總成。該設備中的CVD工藝在兩種氣態化學物質之間產生化學反應,從而在底物上形成薄膜。AMAT P-5000設計用於自動化、用戶友好的系統中的高吞吐量和生產率,使其成為生產使用的理想選擇。反應堆由渦輪泵送機組提供動力,提供低壓、高泵送速度和高氣流的多功能組合。這使得更高的沈積速率和提高產量的各種薄膜應用。反應堆由一個主真空室、一個石英窗和一個加熱器箱組成。真空室由不銹鋼構成,在腔壁周圍有幾種形式的絕緣。墻壁使用密封焊縫相互連接,以減少熱量損失,並確保良好的密封環境。腔室配有渦輪泵機,用於維持腔室內的低壓,為薄膜沈積創造最佳環境。反應堆上的石英窗口被設計為使氣體的入口保持一致,並使整個基板表面的溫度均勻。石英窗還用於保護基板免受溫度和顆粒汙染,保持基板表面清潔,不受汙染。加熱器箱用於維持腔室內部的一致溫度。溫度可以手動調節,也可以通過計算機控制模塊調節。加熱器通常由兩個元件組成,其中一個是加熱元件,另一個是傳感器網格。此外,APPLICED MATERIALS P 5000還包括一個淋浴手臂,用於在薄膜沈積過程中方便地將基板固定到位。噴頭用於確保氣體化學物質均勻分布到基板上。它還通過將氣流均勻地分配到均勻的圓形圖樣上來提高薄膜的均勻性。所有這些組分結合起來創建應用材料P5000,一個革命性的薄膜沈積反應器。該工具為用戶提供了一個可靠和自動化的平臺,以實現大型和小型基板的高沈積吞吐量。它多才多藝的設計也使得它成為生產和研究環境的好選擇。利用AMAT P5000,應用材料正在為下一代薄膜沈積系統設定標準。
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