二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9408603 待售
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ID: 9408603
晶圓大小: 6"
Poly etcher, 6"
(3) Chambers: MXP +
(3) Chamber lid: Quick releases
(3) Pump stack: Non-heaters
(3) O-ring compound 513 CHEMRAZ and vitons
(3) MKS Torr process manometers
(3) B/H UPC: 50 SCCM He backside MFC's
(3) Pressure control type: Throttle valves
(3) Recessed end point windows
(3) Endpoint type: Manochromators
(3) AMAT RF Matches
(3) ESC Cathodes, 6"
(3) LEYBOLD TMP340 / SEIKO SEIKI STP-301C Turbo pumps
Robot and blade
Slot storage, 6"
Cassette indexer
MFC (Stec / Unit)
Gas filter
(3) Process kit / Part number
Polymide ESC, 6" / 0040-99952
Shadow ring / 0200-10243
Shadow ring / 0200-39347
Insulator pipe / 0200-10073
Lift pin / 0020-34040
SILICON Ring / 0200-35623
GDP / 0200-10246
Slit liner / 0020-34696
Cathode liner / 0020-34695
Chamber liner / 0020-34694
Componants:
AMAT
Neslap HX150
(3) ENI OEM12B RF Generators
(3) 0010-36162 RF Matches
(3) LEYBOLD TMP340 Turbo pumps (P/C)
(3) NT340M Controllers
(3) MKS Helium MFC
(3) 50 SCCM Full scales
(3) MKS 100 Torr manometer
(3) Simple cathodes, 6"
(3) Overhaul VAT Gate valves
(3) Baratron gauges
MFC (Stec / Unit ):
(3) CL2 / 200 SCCM
(3) HBR / 200 SCCM
(3) N2 / 500 SCCM.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種水平、雙晶圓、平行板等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）反應器。它旨在為用於半導體制造應用的高質量薄膜提供可靠的處理。AMAT P-5000是利用雙晶圓-rf等離子體化學優勢，通過較高的沈積速率和上層均勻性提供優越的薄膜供應的PECVD腔室。它是一種高性能的工具，能夠生長各種薄膜，包括介電、蝕刻和屏障薄膜。APPLICED MATERIALS P 5000具有大面積的平行板設計,可不受限制地進入晶片,並具有適用於各種尺寸薄膜的大操作窗口。創新的等離子體屏蔽設計也消除了機械分流保護的需要。反應堆裝有單個負載鎖，可以方便地將晶片從儲存或其他工具轉移到APPLIED MATERIALS P5000。載荷鎖、腔室和基板支架都被整合到反應堆中，從而允許一個更加統一和可靠的過程。晶圓架的設計目的是使腔室的加工循環數最小化，並在腔室中提供均勻的等離子體分布。APPLIED MATERIALS P-5000配備了強大的射頻發電機，可產生高達5000瓦的射頻能量。這種射頻能量被用於制造等離子體，激活氣體前體，以便在晶圓上產生高密度薄膜。反應堆還附有一系列工藝配方和各種控制器，提供一致且可重復的等離子體沈積過程。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000體積小巧,易於安裝和操作。它還配備了幾個警報和過程監控系統，這些系統有助於確保進程正確運行並避免意外故障。AMAT P5000是高質量、高精度薄膜的理想選擇，具有良好的薄膜均勻性和提高的產量。它具有高吞吐量，允許短處理時間，也能夠處理高溫過程。AMAT P 5000的設計和特點使其成為需要高性能薄膜的半導體制造商的理想工具。
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