二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9409373 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000高縱橫比蝕刻設備是一種可靠且用途廣泛的反應器,非常適合需要高縱橫比（HAR）蝕刻的晶片蝕刻應用。這種多用途系統可用於氧化物和多矽蝕刻等一系列應用。它能夠在RIE（反應性離子蝕刻）或ICP（感應耦合等離子體）蝕刻過程中進行幹濕蝕刻。AMAT P-5000具有易於使用的直觀用戶界面和7英寸觸摸屏,可輕松操作、精確的過程控制和數據記錄過程參數。APPLICED MATERIALS P 5000利用兩個工藝室，為兩種腔室類型配備了一系列模塊，包括負載鎖、基板加熱和冷卻，以及革命性的腔室設計，降低晶圓平面上的熱梯度。蝕刻室具有平面和圓柱形靜電卡盤功能,在整個蝕刻表面均具有卓越的均勻性。該腔室還具有較低的OTE損耗單元，可最大程度地減少碎片堆積，同時最大限度地提高晶圓吞吐量。該室還具有快門時間優化控制器，能夠對等離子體蝕刻參數進行精細控制。AMAT P 5000還具有高效的氣體輸送機和新設計的帶有先進速率控制工具的高濃度氣體箱，允許用戶精確控制過程氣體。高穩定氣弧（HSGA）特征通過最小化電弧變化導致更一致的蝕刻過程。先進的溫度控制模塊可確保晶圓平面的精確熱均勻性,精度± 2攝氏度。AMAT P 5000的隔離特性旨在防止晶片受到反向電離粒子損傷的可能性，確保晶片受到適當的保護，免受蝕刻環境的惡劣條件的影響。該資產還包括一個高級配方編輯器,允許用戶定義和存儲多達250種配方,以滿足各種應用程序的不同蝕刻要求。P 5000高縱橫比蝕刻模型是需要一致高縱橫比蝕刻的半導體制造和晶圓蝕刻應用的理想選擇。它提供了最大程度的過程控制和可靠性,同時為蝕刻應用程序提供了經濟高效的解決方案。