二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000W #9132652 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000W
ID: 9132652
優質的: 1996
LPCVD system (6) Chambers Process: W-PLUG 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W是一種化學氣相沈積(CVD)反應器,專門為高級記憶和邏輯器件研究和生產而設計。該反應堆采用石英室,設計堅固,具有常規和等離子體增強的CVD(PECVD)能力。反應堆內的壓力和溫度都受到精確控制,以獲得最佳的加工環境。設備還配備了氮氣凈化能力,用於先進的工藝洞察。AMAT P5000W帶有一個直觀的用戶界面,提供反應室壓力和溫度數據的實時顯示。APPLIED MATERIALS P5000W還提供自動操作計量等高級功能,允許用戶以最小的工作量執行各種常規系統檢查。這也允許準確的過程重復性和可重復性。在先進的CVD反應堆內部有一個用於監測反應性物種的原位探測器以及原位溫度和壓力讀數,其精度讀數分別為0.1%、0.2%、0.3%和0.5%。該單元還包含各種高級工藝控制功能,包括多壓力能力和自動設定點調整。P5000W的大腔室設計,由於可以達到的薄膜增長率極低,所以允許高吞吐量。利用快速熱循環,AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W的吞吐量可達到每小時1000晶圓以上。大腔室容量也使得大型晶片和非常規基板的運行,如SOI或藍寶石。該反應器用於銅互連、鎢塞層、接觸切削、氧化物和氮化物鈍化層等多種內存和邏輯裝置應用。可用於銅互連或鎢塞層工藝,極精確的溫度、壓力、工藝參數控制可達到<1%的水平。它還可以進行多種非常規的CVD工藝,包括氧化物和氮化物鈍化層、接觸削減和高長寬比溝槽的無接觸沈積。最後,該反應堆經過設計,便於維護和清潔。腔室和組件易於取用,所需的工具通常隨機器一起提供。此外,還可以通過擴展的數字通信功能與其他流程工具直接集成,從而提供無縫的工具控制,並實現最大程度的流程優化。
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