二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000W #9254064 待售
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ID: 9254064
晶圓大小: 6"
優質的: 1996
Systems, 6"
(3) Chambers
Wafer loading type
Processing type: W-Plug
Exhaust:
Main system: NW 50
Gas line:
Unit / Maker / Model
Chamber A:
MFC1 / STEC / SEC-4400
MFC2 / STEC / SEC-4400
MFC3 / UNIT / UFC-8160
MFC4 / UNIT / UFC-1660
MFC5 / STEC / SEC-4400
MFC6 / UNIT / UFC-1661
MFC7 / UNIT / UFC-1660
MFC8 / UNIT / UFC-1660
Chamber B:
MFC1 / STEC / SEC-4400
MFC2 / STEC / SEC-4400
MFC3 / UNIT / UFC-1660
MFC4 / UNIT / UFC-1660
MFC5 / STEC / SEC-4400
MFC6 / UNIT / UFC-1100
MFC7 / UNIT / UFC-1260A
MFC8 / UNIT / UFC-1660
Chamber D:
MFC1 / STEC / SEC-7440
MFC2 / STEC / SEC-4400
MFC3 / UNIT / UFC-1660
MFC4 / STC / UFC-1660
MFC5 / STC / SEC-4400
MFC6 / UNIT / UFC-1660
MFC7 / UNIT / UFC-1660
MFC8 / UNIT / UFC-1660
OEM No marking transfer
Gauge:
Chamber / Maker / Model
Chamber A / MKS / 627A
Chamber B / MKS / 127AA
Chamber D / MKS / 624A
RF Unit:
Chamber / Maker / Model / Unit
Chamber A, B and D / ENI / OEM-12B / Generator
Chamber A / B / D / OEM / 0010-09750R / Matcher
Sub module:
Maker / Model / Unit
(3) EDWARDS / QDP40 / Dry pumps
EBARA / A30W / Dry pump
AMAT / APPLIED MATERIALS / AMAT0 / Heat exchanger
(2) UNISEM / UN2004A-HW / Scrubbers
Power supply: 208 VAC, 3 Phases, 50/60 Hz
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W反應堆，又稱機場金屬有機化學氣相沈積設備，是一種用途廣泛、可靠的工具，設計用於成批或成簇的先進半導體工藝。為了制造用於集成電路生產的復雜結構，它被用於在矽晶片上沈積薄薄的材料層。AMAT P5000W是一種高效的設備,可提供卓越的過程重復性和可靠性。APPLICED MATERIALS P5000W有一個自動化的一步載荷鎖，可以將晶片直接放入反應室中。這消除了晶圓傳輸的需要，加快了製程週期的時間。腔室容積約為70升,工作溫度範圍介於-5˚C和+450˚C之間.通用的設計使系統可以用於各種過程，包括膜結構的單層和多層沈積。P5000W采用基於PC的機器人和全過程控制環境。它配備了一個獨特的實時反饋單元，用於監控過程的結果。此外,AMAT/APPLIED MATERIALS P5000W針對低溫操作進行了優化,非常適合復雜的工藝配方。先進的控制機器提供完整的統計過程控制、快速診斷、最優調諧和精確的研究-化學控制能力。AMAT P5000W具有Turbo Source技術,可以對厚度不同的層進行精確沈積。這使得極均勻的薄膜得以沈積，從而提高了橫截面均勻性和圖案化的可重復性。APPLICED MATERIALS P5000W還設有一個三基板校準站，旨在提供精確和可重復的基板厚度。P5000W反應堆是為先進的半導體沈積過程而設計的一種強大而可靠的工具。它具有自動化的一步加載鎖、基於PC的機器人和過程控制環境、Turbo Source技術、三基板校準站等多種特點,使其具有卓越的工藝可重復性和可靠性,可獲得最佳的總體擁有成本。
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