二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer CVD #9006107 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Producer CVD（等離子體增強化學氣相沈積）是一種用於制造各種材料薄膜的反應器。該反應堆常用於生產半導體器件、集成電路和顯示器。它使多晶矽、無定形矽、氧化物、氮化物和金屬等多種薄膜得以沈積。AMAT Producer CVD使用兩種不同的等離子體源運行，射頻（RF）和直流電（DC）。在射頻源中，射頻電場用於激發氣體分子產生等離子體。在直流源中，利用直流電場使燃料氣體中的電子粒子通電，形成熱電子等離子體。這種等離子體在氣相中產生化學反應，然後可以將所需的材料沈積到室內的底物上。應用材料生產商CVD由各種組件組成，包括一個腔室、反應物源、氣體輸送設備、過程控制單元和真空系統。腔室為圓柱形空間，腔室頂部有唇形電極，腔室底部有基板支架。反應物源由犧牲棒、蒸發/濺射源或陣陣淋浴頭電極組成，通常可用來蝕刻基板表面。氣體輸送裝置從源向腔室提供入口氣體，然後由腔室中的兩個等離子體源激發成等離子體。根據要加工的配方，氣體的數量從一到十不等。流程控制單元提供高級控制和監控,以確保流程重現。真空機提供產生等離子體所需的真空壓力。綜上所述，Producer CVD反應堆使用RF或DC等離子體源結合各種反應物，將薄膜沈積在基板上。它由一個腔室、一個反應物源、氣體輸送工具、過程控制單元和真空資產組成。這種反應器通常用於生產半導體器件和集成電路。