二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9198996 待售
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ID: 9198996
晶圓大小: 12"
優質的: 2008
CVD System, 12"
Number of loadports: 4
Factory interface model: 5.4
AMHS Configuration: OHT
Chamber A:
SACVD Twin
Process: HARP USG
RPS Type: 6 Litre
Heater type/Part number: Vacuum chuck
Process kit type: HARP kit
Chamber B:
SACVD Twin
Process: HARP USG
RPS Type: 6 Litre
Heater type/Part number: Vacuum chuck
Process kit type: HARP kit
Chamber C:
SACVD Twin
Process: HARP USG
RPS Type: 6 Litre
Heater type/Part number: Vacuum chuck
Process kit type: HARP kit
Computers:
FE Computer type: FES
FI Computer type: FIS
RT Computer type: CL7
Misc hardware:
FI Robot type: KAWASAKI Track
Buffer robot type: GT
Remote AC: 208V
Heat exchanger 1: Unisem
FI Robot blade type: Aluminum
Buffer robot blade type: Ceramic
LCF/Wafer detect: LCF
Roll around monitors: (2)
Ozone cabinet: Inusa
Number of ozone generators: 3 MKS
Gas panel configurations:
Gas box type: 1-1/8 C-Seal surfacemount
Stick 1: NF3 - 15000sccm
Stick 2: AR - 15000sccm
Stick 3: N2 - 5000sccm
Stick 4: N2 - 50000sccm
Stick 5: He - 30000sccm
Liquid 1: TEOS - 7g/min
2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT是一個高度先進的沈積系統,為沈積過程提供一系列可定制的解決方案。該反應室包括一個完全靈活的源體系結構,允許沈積配方根據特定的客戶需求量身定制。AMAT Producer GT旨在利用連續的網狀沈積技術提供對基板溫度、壓力和流速的精確控制。APPLICED MATERIALS Producer GT反應室的主要結構由一個高品質的金屬真空室組成,能夠支撐各種各樣的底物尺寸和形狀。位於真空室內的是該源,由一臺大功率射頻發電機和熔爐組成。生產反應堆還采用具有自動對準能力的先進掃描技術,提供精確控制和均勻沈積。這樣可以確保所有基板的覆蓋範圍一致,無論形狀和尺寸如何。射頻發生器和柚子連接到一個沈積室,利用CVD源生產鋁化膜。CVD源提供了一個高度豐富的形成膜氣體的來源,使得極薄的膜可以一次沈積在多個基板上。此外,沈積室能夠得到極低的基質溫度,高達20oC。這樣可以提高薄膜質量,並有可能產生高長寬比沈積和降低接觸阻力。為了最大限度地提高效率和生產力,Producer GT配備了一系列先進的工具。機載機械臂設計用於快速裝卸基板,最大程度地減少過程之間的停機時間。反作用室還設有一個網絡傳輸系統,一次可以裝卸一整卷底物。這樣可以提高吞吐量,並允許在一次運行中處理更大的批處理大小。總體而言,AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT是一種高度先進且可定制的解決方案,可提供精確沈積和提高生產率。該反應室具有一系列先進技術,如自動掃描、CVD源、機器人臂和Web傳輸系統,使其能夠根據特定的工藝要求量身定制。
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