二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9228298 待售
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單擊可縮放
ID: 9228298
晶圓大小: 12"
優質的: 2009
CVD System, 12"
(3) Chambers
EFEM:
(4) Load ports
Load port type: TDK / TAS300 / G1
(2) EFEM Robots
ATM 0090-25011 Robot
KAWASAKI 3NX510B-D001 ATM Robot
TM and chamber robot
BROOKS 0190-25011 Vacuum robot
Chambers:
623B-24562 Throttle valve
APEX 3013 RF Generator
MKS ASTRON 2L Remote plasma system
Chamber A / B / C:
Gas line position / Process gas / MFC Size / Maker
1 / N2 Purge
2 / NF3 / 15000 sccm / Unit
3 / AR / 10000 sccm / Unit
4 / SIH4 / 1000 sccm / Unit
5 / N2 PURGE / - / -
6 / NH3 / 700 sccm / Unit
7 / N2 PURGE / 25000 sccm / Unit
8 / AR / 10000 sccm / Unit
10 / O2 / 10000 sccm / Unit
11 / N2O / 1000 sccm / Unit
12 / N2O / 15000 sccm / Unit
20 / TEOS / 7 g/min / HORIBA STEC
21 / AR / - / -
22 / N2 PURGE / 15000 sccm / Unit
Electrical requirements:
Power supply: 208 VAC, 50/60 Hz, 3-Phase, 4-Wires
Full load current: 240 Amp
2009 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS Producer GT是用於半導體制造的下一代半導體反應器。該反應堆專為高端光刻設備量身定制，提供最新的分布式熱和顆粒控制。該反應堆旨在優化需要低排泄率和關鍵特征精度的過程。AMAT Producer GT由兩個主要組件組成，工藝室和子組件。該工藝室包含晶片盒以及帶有架空光學器件、微波、磁共振、激光和離子植入系統的工藝模塊。子組件包括等離子體源、泵、冷卻器、氣體輸送系統、電源和自動化。等離子體源被設計為產生具有低粒子夾帶的高離子密度等離子體離子源。它被封閉在RF屏蔽的存儲模塊中,以防止EMI幹擾。氣體輸送系統用於確保對氣體流動、壓力和溫度的精確控制。這種氣體被設計成是隔離和無泄漏的。電源專為低功耗和均勻分配給所有工藝模塊而設計。它們能夠適應系統電壓波動,降低過程中斷的風險。真空泵是一種渦輪分子設計，允許精確的控制和可靠的操作，即使壓力需求變化很大。冷卻器提供可靠基板加工所需的一致冷卻。這些反應堆采用3D掃描成像技術進行工程設計，為光刻創造了優化的工藝參數要求。這種組合式組件可確保功能的高度均勻處理到22nm,並且排便率低。APPLIED MATERIALS Producer GT的自動化能力使其成為高混合和低體積半導體生產的理想解決方案。它通過可編程晶片調度和嚴格控制工藝參數和工藝配方管理來滿足多室處理的需要。自動化還提供了自我監控和自我調整功能,可減少啟動時間和增加平臺啟動時間。AMAT設計了Producer GT,以最大限度地提高生產率和產量,同時最大限度地降低擁有成本。該反應堆是希望優化其半導體工藝控制能力的制造商的理想解決方案。
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