二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Producer GT #9231995 待售
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ID: 9231995
晶圓大小: 12"
優質的: 2008
System, 12"
(3) Chambers
(4) Load ports
Factory interface: 5.4
AMHS Configuration: OHT
FE Computer type: FES
FI Computer type: FIS
RT Computer type: CL7
Misc hardware:
FI Robot type: KAWASAKI Track
FI Robot blade type: Aluminum
LCF
Buffer robot type: GT
Buffer robot blade type: Ceramic
(2) Roll around monitors
Remote AC: 208 V
Ozone cabinet: INUSA
Heat exchanger 1: UNISEM
(3) MKS Ozone generators
Chamber A, B and C:
Type: SACVD Twin
Process: HARP USG
RPS Type: 6 Litres
Heater type: Vacuum chuck
Gas panel configurations:
Gas box type / 1-1/8 C-Seal surfacemount
Stick 1 / NF3 - 15000 sccm
Stick 2 / AR - 15000 sccm
Stick 3 / N2 - 5000s ccm
Stick 4 / N2 - 50000 sccm
Stick 5 / He - 30000 sccm
Liquid 1 / TEOS - 7 g/min
2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Producer GT是一種熱化學氣相沈積（CVD）薄膜沈積反應器，通常用於半導體工業中，將各層材料沈積到晶片上，如氧化物、多晶矽和金屬。該工具利用冷壁石英工藝室控制沈積環境溫度，並利用氣體註入設備將反應物氣體分散到反應室中。該系統主要由四個部分組成：加工室、氣體註入單元、晶圓輸送機和電動工具。該工藝室是一個大型真空室，具有HEPA過濾資產，有助於過濾出空氣中的顆粒。它還含有石英管，有助於保持工藝溫度的調節。氣體註入模型負責提供精確數量的反應物氣體，並控制引入工藝室的速率。晶圓運輸設備負責將晶圓裝入加工室，並在腔內移動晶圓。系統設計的最大每晶片吞吐量為每小時200晶片。最後，由計算機控制的電源單元負責控制工序室的功率水平。這一點很重要，因為不同的薄膜需要不同的功率水平才能提供正確的沈積。該機還具有自動動力補償功能，有助於保持不同材料更一致的沈積。最後,AMAT Producer GT是一種復雜的半導體工業薄膜沈積CVD工具.它具有許多不同的組件，這些組件可以協同工作，使各種薄膜能夠精確地沈積到晶片上。該工具旨在提供每小時200個晶圓的最大吞吐量,並且能夠自動補償沈積不同薄膜時功率的變化。這有助於保持一致和高質量的沈積。
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